文献
J-GLOBAL ID:202002262649351802   整理番号:20A2644781

異なる調製設計によるジルコニア強化ケイ酸リチウムオーバレイの限界適応【JST・京大機械翻訳】

Marginal adaptation of zirconia-reinforced lithium silicate overlays with different preparation designs
著者 (4件):
資料名:
巻: 32  号:ページ: 823-830  発行年: 2020年 
JST資料番号: W2639A  ISSN: 1496-4155  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
目的:強い接着結合の出現後,保持的形状のない保存的歯調製設計は,人気の増加を得た。本研究は,異なる調製設計を有するジルコニア強化ケイ酸リチウム(ZLS)オーバレイの限界適応を評価することを目的とした。材料と方法:40の健全なヒト上顎第一大臼歯を採取し,ZLSオーバーレイの製作のための準備設計に従って4群(n=10)に分けた:(O)解剖学的咬合減少,(OS)解剖学的咬合減少,中心溝を伴う(OG)解剖学的咬合減少,および(OSG)円形肩と中心溝による解剖学的咬合減少。ビデオ測定機(VMM)を用いて限界ギャップを測定した。統計解析は,一元配置ANOVAとそれに続く対t検定とTukey試験(α=0.05)を用いて行った。【結果】ギャップサイズは,(P=0.004)前と(P=0.008)セメント化の後,群間で有意に異なり,OSG群よりO群では有意に小さかった(P=0.002前とセメント化後P=0.004)。辺縁ギャップは,セメンテーション後のすべての群で増加した(P<0.001)。結論:グループOはグループOSとOGと同等な限界適応を示し,一方,最も複雑なデザインを有するグループOSGはZLSオーバーレイに対して最も低い限界適応を示した。CLINICAL SIGNIFICANCE:このin vitro研究の結果によると,咬合修復を必要とする無欠陥歯に対して,咬合表面調製のみは最適な辺縁適応を達成するのに十分であり,意図的およびより侵襲性の準備デザインは必要でないと述べた。Copyright 2020 Wiley Publishing Japan K.K. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
歯科材料  ,  歯の基礎医学 

前のページに戻る