Lewis酸/塩基中心の同時および個別ドーピングによる還元酸化グラフェンの電極触媒水分解活性の変化【JST・京大機械翻訳】

Shit Subhasis; Shit Subhasis; Samanta Prakas; Samanta Prakas; Bolar Saikat; Bolar Saikat; Murmu Naresh Chandra; Murmu Naresh Chandra; Kuila Tapas; Kuila Tapas

文献

J-GLOBAL ID：202002262650199065 整理番号：20A2475601

Lewis酸/塩基中心の同時および個別ドーピングによる還元酸化グラフェンの電極触媒水分解活性の変化【JST・京大機械翻訳】

Alteration in electrocatalytic water splitting activity of reduced graphene oxide through simultaneous and individual doping of Lewis acid/base center

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資料名：
巻： 362 ページ： Null 発行年： 2020年
JST資料番号： B0535B ISSN： 0013-4686 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

基質吸着-脱着は,水素発生反応(HER)および酸素発生反応(OER)触媒プロセスにおける重要な側面である。BとNはLewis酸と塩基特性を有するCの2つの隣接元素である。しかし,電極触媒活性に対するグラフェン中のこれらのLewis酸および塩基中心の同時および個々の取込みの影響を理解するために,今日まで,いかなる徹底的研究も調べられていない。本研究では,還元グラフェン酸化物(rGO)へのBとNの取り込みが,基板吸着-脱着を促進し,また,その格子定数と電子構造を変調することを見出した。しかし,NドープrGOはHERにおいて良好な基板吸着効率を示したが,この場合には基板拡散は緩慢であった。BとNドープrGOの中程度の基質吸着効率にもかかわらず,それはより速い基板拡散により良好なHER触媒活性を示し,327mV過電圧で550mAcm-2電流密度を達成した。BドープrGOはOERにおいて良好な基板吸着効率を示した。しかし,NドープrGOのより良い電荷移動効率により,OERが電荷移動速度により支配されるので,優れたOER触媒活性を示した。電極触媒効率に加えて,電極触媒プロセスの機構は,Lewis酸と塩基中心の同時と個々の取り込みにより変化した。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

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電気化学反応

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