文献
J-GLOBAL ID:202002262990928955   整理番号:20A2529165

300°Cおよび500°Cにおける非晶質けい素オキシカーバイドの二重ビーム照射安定性【JST・京大機械翻訳】

Dual-Beam Irradiation Stability of Amorphous Silicon Oxycarbide at 300°C and 500°C
著者 (9件):
資料名:
巻: 72  号: 11  ページ: 4002-4007  発行年: 2020年 
JST資料番号: C0321A  ISSN: 1047-4838  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
300°Cから500°Cの温度範囲での材料の照射安定性は,種々の核応用のための重要なステップである。ここでは,二重ビーム照射を用いて,極端な環境(温度および照射)に対する非晶質シリコンオキシカーバイド(SiOC)の応答を調べた。非晶質SiOCをスパッタリングにより薄膜形態で調製し,次いで断面透過型電子顕微鏡(TEM)試験片に作製し,最後にTEM内部でヘリウム(He)とクリプトン(Kr)イオンを照射した。その場TEM観察は,Heバブルとボイド形成が,最大231at%までの同時He注入で95dpaまでの照射後に高度に抑制されることを明らかにした。原子対分布関数は,非晶質構造が照射前後でほとんど同じであり,結晶化も相分離も検出されないことを示唆した。本研究は,原子炉運転温度における二重ビーム照射下での非晶質SiOCの安定性を実証し,この材料が先進原子炉用の構造材料として適用可能であることを示唆した。Copyright The Minerals, Metals & Materials Society 2020 Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
金属の放射線による構造と物性の変化  ,  分散強化合金 
タイトルに関連する用語 (3件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る