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J-GLOBAL ID：202002263641736599   整理番号：20A2510472

酸化ニッケルと酸化タングステン強化ポリ塩化ビニルナノ複合材料の誘電特性と電磁干渉遮蔽の研究【JST・京大機械翻訳】

Dielectric properties and electromagnetic interference shielding studies of nickel oxide and tungsten oxide reinforced polyvinylchloride nanocomposites

著者 (4件)： Muzaffar Aqib (Department of Physics, B.S. Abdur Rahman Crescent Institute of Science and Technology, Chennai, India) ,  Ahamed M. Basheer (Department of Physics, B.S. Abdur Rahman Crescent Institute of Science and Technology, Chennai, India) ,  Deshmukh Kalim (New Technologies-Research Center, University of West Bohemia, Plzen, Czech Republic) ,  Pasha S. K. Khadheer (Department of Physics, VIT-AP University, Amaravati Campus, Guntur, India)
資料名： Polymer-Plastics Technology and Materials  (Polymer-Plastics Technology and Materials)
巻： 59  号： 15  ページ： 1667-1678  発行年： 2020年 
JST資料番号： W6028A  ISSN： 2574-0881  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ABSTRACT:ポリ塩化ビニル(PVC)/酸化ニッケル(NiO)/酸化タングステン(WO_3)ナノ複合膜を溶液キャスティング法により調製した。X線回折(XRD)および走査電子顕微鏡(SEM)を用いて,PVC/NiO/WO_3ナノ複合材料の結晶性,形態,および分散状態の分析を行った。ナノ複合膜の誘電研究を行い,2.4の誘電損失(tanδ)で2.3の最大誘電率を得た。EMI遮蔽研究をXとKuバンド周波数範囲(8GHz~18GHz)で行った。Xバンドで15.78dB,Kuバンドで12.05dBの最大SEが,PVC/NiO/WO_3ナノ複合材料の75/20/5組成で達成された。GRAPHICAL ABSTRACT;Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： X線回折 ,  走査電子顕微鏡 ,  電子顕微鏡観察 ,  誘電損失 ,  誘電率 ,  *ポリ塩化ビニル ,  *誘電性 ,  *酸化タングステン ,  *酸化ニッケル ,  結晶度 ,  *電磁干渉 ,  ナノ複合材料 ,  損失正接
準シソーラス用語： Kuバンド ,  Xバンド ,  ナノ複合膜 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： EMIシールド ,  誘電特性 ,  WO_3 ,  NiO ,  SEM

分類 (2件)： 雑音一般  (ND04010J) ,  高分子固体の物理的性質  (CG02024U)

タイトルに関連する用語 (9件)： 酸化ニッケル ,  酸化タングステン ,  強化 ,  ポリ塩化ビニル ,  ナノ複合材料 ,  誘電特性 ,  電磁干渉 ,  遮蔽 ,  研究