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J-GLOBAL ID:202002263670360690   整理番号:20A1029356

炭素被覆シリコンのリチオ化における静電場誘起応力【JST・京大機械翻訳】

Electrostatic-field-triggered stress in the lithiation of carbon-coated silicon
著者 (6件):
資料名:
巻: 459  ページ: Null  発行年: 2020年 
JST資料番号: B0703B  ISSN: 0378-7753  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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従来の観点から,静電場の存在下での炭素被覆シリコン粒子のリチオ化反応のシミュレーションにより,リチウム化反応がより大きいほど,成長応力がより大きくなることを証明した。シミュレーションにおいて,成長応力と電荷密度の間の正の相関が観察され,Pharrの研究における実験結果と一致した。シミュレーション結果はまた,成長応力がリチオ化-反応誘起応力(LRIS)と場誘発応力(FTS)から成ることを示した。FTSは常に無視されるが,リチオ化反応の初期段階においてLRISよりも同等または大きい。FTS形成の物理的機構は,エネルギー保存と変換の観点に基づいて明らかになった。FTSは,特に急速充電を特徴とするリチウムイオン電池の開発において,シリコンの格子構造に非常に重大な損傷をもたらすことができるので,深刻に考慮される必要がある。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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二次電池 

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