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J-GLOBAL ID：202002263871714810   整理番号：20A0827324

CFETR中央ソレノイドモデルコイルの製造状況【JST・京大機械翻訳】

Manufacturing Status of CFETR Central Solenoid Model Coil

著者 (16件)： Han Houxiang (Institute of Plasma Physics, Chinese Academy of Sciences, Hefei, Anhui, China) ,  Jin Jing (Institute of Plasma Physics, Chinese Academy of Sciences, Hefei, Anhui, China) ,  Ma Guanghui (Institute of Plasma Physics, Chinese Academy of Sciences, Hefei, Anhui, China) ,  Wang Weijun (Institute of Plasma Physics, Chinese Academy of Sciences, Hefei, Anhui, China) ,  Song Jian (Institute of Plasma Physics, Chinese Academy of Sciences, Hefei, Anhui, China) ,  Li Tong (Institute of Plasma Physics, Chinese Academy of Sciences, Hefei, Anhui, China) ,  Wang Teng (Institute of Plasma Physics, Chinese Academy of Sciences, Hefei, Anhui, China) ,  Li Jiangang (Institute of Plasma Physics, Chinese Academy of Sciences, Hefei, Anhui, China) ,  Wu Yu (Institute of Plasma Physics, Chinese Academy of Sciences, Hefei, Anhui, China) ,  Qin Jinggang (Institute of Plasma Physics, Chinese Academy of Sciences, Hefei, Anhui, China) ,  Liu Huajun (Institute of Plasma Physics, Chinese Academy of Sciences, Hefei, Anhui, China) ,  Shi Yi (Institute of Plasma Physics, Chinese Academy of Sciences, Hefei, Anhui, China) ,  Jin Huan (Institute of Plasma Physics, Chinese Academy of Sciences, Hefei, Anhui, China) ,  Guo Liang (Institute of Plasma Physics, Chinese Academy of Sciences, Hefei, Anhui, China) ,  Hu Yanlan (Institute of Plasma Physics, Chinese Academy of Sciences, Hefei, Anhui, China) ,  Yin Dapeng (Institute of Plasma Physics, Chinese Academy of Sciences, Hefei, Anhui, China)
資料名： IEEE Transactions on Applied Superconductivity  (IEEE Transactions on Applied Superconductivity)
巻： 30  号： 4  ページ： ROMBUNNO.4201904.1-4  発行年： 2020年 
JST資料番号： W0177A  ISSN： 1051-8223  CODEN： ITASE9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 中央ソレノイドモデルコイル(CSMC)は,中国科学技術研究所(ASIPP)における中国核融合工学試験炉(CFETR)のための大スカラー超伝導コイル製造技術を検証することである。Nb_3SnとNbTiハイブリッド超伝導磁石から成るCSMCは,12Tの最大磁場に達することができた。コイルの主要製造プロセスを開発し,研究開発とモックアップコイル製造により検証した。現在,すべての5つのコイル巻線と2/3のターミナル製造を完了し,Nb_3Sn内部コイルの熱処理を完了した。熱処理したNb_3Snコイルのためのターンリリースと絶縁ラッピングプロセスとステーションを開発した。5つのコイルに対する主要な残りのプロセスは,接地絶縁ラッピングと真空圧力含浸(VPI)である。モックアップコイルVPIを最初に実行し,プロセスを検証した。本論文は,CFETR CSMCの主要な製造進展を紹介した。Copyright 2020 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 接地 ,  生産工程 ,  スカラー ,  生産技術 ,  科学技術 ,  *ラッピング ,  超伝導コイル ,  磁場 ,  含浸 ,  超伝導磁石

分類 (3件)： パターン認識  (JE07000S) ,  音声処理  (JE05000E) ,  符号理論  (ND02030R)

タイトルに関連する用語 (1件)： 状況