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J-GLOBAL ID:202002264233505547   整理番号:20A2558634

光起電力応用のための層拡散処理InBi_2Se_4薄膜の作製と特性評価【JST・京大機械翻訳】

Preparation and characterization of layer-diffusion processed InBi2Se4 thin films for photovoltaics application
著者 (10件):
資料名:
巻: 220  ページ: Null  発行年: 2020年 
JST資料番号: D0251A  ISSN: 0030-4026  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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本研究では,セレン化インジウムビスマス(InBi_2Se_4)薄膜の光電子特性を,光起電力応用のそれらの可能性のために研究した。InBi_2Se_4膜を,Bi_2S_3粉末とインジウム粒子を用いてガラス基板上に熱共蒸着法により調製した。堆積したままの膜を次に異なる温度でアニールしInBi_2Se_4薄膜に変換した。その結果,得られたInBi_2Se_4膜は,350°Cで焼なました膜に対して1.2eVの最適バンドギャップとして優れた光電子特性を有することが分かった。電流と電圧の現実化の特性評価結果に基づいて,堆積したままとアニールしたInBi_2Se_4薄膜は,電流とアニーリング温度の間に直線関係を示した。また,膜の粒径の増加とともに,電流が固定印加電圧で増加することも分かった。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (4件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
半導体薄膜  ,  半導体レーザ  ,  光物性一般  ,  酸化物薄膜 

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