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文献
J-GLOBAL ID:202002264411017031   整理番号:20A1098823

タンデム二重スリット光学系によるアンジュレータ放射の水平ビームエミッタンスの測定【JST・京大機械翻訳】

Measurement of the horizontal beam emittance of undulator radiation by tandem-double-slit optical system
著者 (6件):
資料名:
巻: 27  号:ページ: 799-803  発行年: 2020年
JST資料番号: W0763A  ISSN: 0909-0495  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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アンジュレータ放射の実用的なビーム放射率を評価するために,タンデム二重スリット光学システムを構築した。光学系は,光学軸上に配列した上流スリット(S_1)と下流スリット(S_2)の組み合わせで,適切な分離を行った。二重スリット,I(x_1,x_2)の後の強度分布を,水平方向における走査S_1とS_2によって測定した。強度を有する座標をI(x_1,x_2)から抽出し,その輪郭はx_1-x_2空間における標準偏差楕円を提供した。I(x_1,x_2)を,相空間,I(x_1,x_1′)における対応する分布に変換した。水平ビームエミッタンスは3.1nm radと評価され,これはレイトレーシングを用いて推定された2.4nm radの値よりも大きかった。その増加は主にサイズよりもむしろビーム発散の増加によることが分かった。Copyright 2020 Wiley Publishing Japan K.K. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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X線回折法 
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