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J-GLOBAL ID：202002264486396447   整理番号：20A1751367

TSV突出の統計学的変動に及ぼすピッチ距離の影響と基礎メカニズムの研究【JST・京大機械翻訳】

Study of the Impact of Pitch Distance on the Statistical Variation of TSV Protrusion and the Underlying Mechanisms

著者 (4件)： Jalilvand Golareh (University of Central Florida,Department of Materials Science and Engineering,Orlando,USA,32816) ,  Ahmed Omar (University of Central Florida,Department of Materials Science and Engineering,Orlando,USA,32816) ,  Dube Nicolas (University of Central Florida,Department of Materials Science and Engineering,Orlando,USA,32816) ,  Jiang Tengfei (University of Central Florida,Department of Materials Science and Engineering,Orlando,USA,32816)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2020  号： ECTC  ページ： 1173-1179  発行年： 2020年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,TSVにおけるCu突起の統計変化に及ぼすピッチ距離の影響とその基礎となる機構を検討した。10μmと40μmのピッチ距離を有する2つのTSV配列からの120バイアにおけるCu突出の大きさと統計的広がりを研究した。10μmピッチ距離のバイアにおいて突出の大きさの著しい増加が観察されたが,異なるピッチ距離を有するTSVにおける突出高さ変動は類似していた。有限要素解析を行い,Cuバイアの周りと周辺の応力に及ぼすピッチ距離の影響を明らかにした。トポグラフィーと微細構造キャラクタリゼーションを行い,突起の大きさ,統計的広がり,形態,およびメカニズムに及ぼすピッチ距離の影響を研究した。結果は,より大きな応力とより大きな突起のために作られたより小さなピッチ距離,しかし,突出の変化はピッチ距離に弱く依存することを示した。微細構造研究は,突起トポグラフィーと結晶粒構造の間の相関を明らかにした。さらに,小ピッチの統計広がりは,大きなピッチバイアのそれにほぼ同一であるにもかかわらず,リング形状形態は,より小さなピッチ距離のビアで,より頻繁に観察された。突起の統計変化および異なる突出形態の原因となる機構を考察した。Copyright 2020 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 微細構造 ,  *銅 ,  結晶粒 ,  キャラクタリゼーション
準シソーラス用語： 有限要素解析 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 図形・画像処理一般  (JE04010I)

タイトルに関連する用語 (6件)： TSV ,  統計学 ,  ピッチ ,  基礎 ,  メカニズム ,  研究