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J-GLOBAL ID：202002264535912731   整理番号：20A1206054

水蒸気支援変換による希薄合成ゲルで被覆した管状シリカ担体上の純粋シリカ*BEA型ゼオライト膜の作製【JST・京大機械翻訳】

Fabrication of pure-silica *BEA-type zeolite membranes on tubular silica supports coated with dilute synthesis gel via steam-assisted conversion

著者 (10件)： Ueno Kyohei (Department of Oral Biochemistry, Division of Oral Structure, Function and Development, Asahi University School of Dentistry, 1851 Hozumi, Mizuho, Gifu 501-0296, Japan) ,  Ueno Kyohei (Faculty of Engineering, Gifu University, 1-1 Yanagido, Gifu, Gifu 501-1193, Japan) ,  Yamada Saki (Graduate School of Natural Science and Technology, Gifu University, 1-1 Yanagido, Gifu, Gifu 501-1193, Japan) ,  Negishi Hideyuki (Research Institute for Chemical Process Technology, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), AIST Central 5, 1-1-1 Higashi, Tsukuba, Ibaraki 305-8565, Japan) ,  Okuno Takuya (Frontier Technologies Laboratory, Sumitomo Electric Industries, Ltd., 1, Taya-cho, Sakae-ku, Yokohama, Kanagawa 244-8588, Japan) ,  Tawarayama Hiromasa (Frontier Technologies Laboratory, Sumitomo Electric Industries, Ltd., 1, Taya-cho, Sakae-ku, Yokohama, Kanagawa 244-8588, Japan) ,  Ishikawa Shinji (Frontier Technologies Laboratory, Sumitomo Electric Industries, Ltd., 1, Taya-cho, Sakae-ku, Yokohama, Kanagawa 244-8588, Japan) ,  Miyamoto Manabu (Faculty of Engineering, Gifu University, 1-1 Yanagido, Gifu, Gifu 501-1193, Japan) ,  Uemiya Shigeyuki (Faculty of Engineering, Gifu University, 1-1 Yanagido, Gifu, Gifu 501-1193, Japan) ,  Oumi Yasunori (Organization for Research and Community Development, Gifu University, 1-1 Yanagido, Gifu, Gifu 501-1193, Japan)
資料名： Separation and Purification Technology  (Separation and Purification Technology)
巻： 247  ページ： Null  発行年： 2020年 
JST資料番号： T0428B  ISSN： 1383-5866  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 希薄合成ゲルで被覆されたシード管状シリカ支持体上での水蒸気支援変換(SAC)法を用いて,疎水性純粋-シリカ*BEA型ゼオライト膜を調製した。本研究では,膜形成過程と分離性能に及ぼす合成条件の影響を系統的に調べた。最適条件下で,500のH_2O/SiO_2比を有する希薄合成ゲルを用いるとき,高密度で連続的な膜層が24時間で形成された。これは,シード結晶層の成長のためのシリカ源として機能する蒸気処理中のシリカ担体表面の溶解に起因した。担体表面上のシリカの濃度の増加は,局所的に希薄な合成ゲル組成の下で膜の形成を可能にした。得られた膜は,318Kで1wt%n-ブタノール/水混合物に対して,132の分離係数と1.00kgm-2h(-1)の流束を有する高流束に加えて,n-ブタノールに対して選択性を示した。この新しい簡単な膜形成法は,希薄合成ゲルをSACと結合し,シリカ担体の溶解を利用し,膜合成に使用される化学原料の消費とコストを低減する。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *ゲル ,  疎水性 ,  *二酸化ケイ素 ,  分離係数 ,  種結晶 ,  最適条件
準シソーラス用語： 分離性能 ,  *ゼオライト膜 ,  薄膜形成 ,  高密度 ,  蒸気処理 ,  一酸化ケイ素 ,  *シリカ担体 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 純シリカ*BEA型ゼオライト ,  疎水性膜 ,  管状シリカ担体 ,  蒸気支援変換 ,  n-ブタノール/水分離

分類 (1件)： 膜分離  (XD02120Z)

タイトルに関連する用語 (7件)： 水蒸気 ,  支援 ,  ゲル ,  シリカ担体 ,  シリカ ,  ゼオライト膜 ,  作製