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J-GLOBAL ID：202002264806049527   整理番号：20A1060370

新しいCe(MoO_4)_2@TiO_2N-Nヘテロ構造の設計:毒性染料の光劣化の増強【JST・京大機械翻訳】

Design novel Ce(MoO₄)₂@TiO₂n-n heterostructures: enhancement photodegradation of toxic dyes

著者 (2件)： Aghajani Zahra (Department of Chemistry, Qom Branch, Islamic Azad University, Qom, Iran) ,  Hosseinpour-Mashkani S. Mostafa (Institute for Biomedical Materials and Devices, School of Mathematical and Physical Sciences, Faculty of Science, University of Technology Sydney, Ultimo, NSW, Australia)
資料名： Journal of Materials Science. Materials in Electronics  (Journal of Materials Science. Materials in Electronics)
巻： 31  号： 9  ページ： 6593-6606  発行年： 2020年 
JST資料番号： W0003A  ISSN： 0957-4522  CODEN： JMTSAS  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 研究において,超音波的に合成したCe(MoO_4)_2ナノ構造をTiO_2ナノ粒子と結合して,モリブデンベースのn-nヘテロ構造光触媒(Ce(MoO_4)_2@TiO_2)を合成した。TiO_2ナノ粒子とのカップリングを行い,電子-正孔対再結合を減少させ,Ce(MoO_4)_2とTiO_2の間の界面によるUV-Vis光吸収を増加させた。アニオン性およびカチオン性染料としてのメチルオレンジ(MO)およびローダミンB(RhB)を,UV-Vis光照射下でのモリブデン系n-nヘテロ構造の光触媒特性を研究するために適用した。また,光触媒収率に及ぼす種々のTiO_2濃度の影響を評価した。Ce(MoO_4)_2@TiO_2の光触媒収率は,Ce(MoO_4)_2と比較して30%強化を示した。分解反応に及ぼす溶液のpH,触媒用量,染料濃度,各種無機イオン(SO42-,NO3-,CO3-,Cl-)のような種々のパラメータの影響を調べた。DRS結果は,Ce(MoO_4)_2@TiO_2(3.3eV)ナノ構造のバンドギャップがCe(MoO_4)_2(2.69eV)と比較して赤方偏移を示すことを実証した。最適分解条件下で,メチルオレンジ(MO)およびローダミンB(RhB)の約95および93%が,UV-Vis照射下で50分後に分解された。Copyright Springer Science+Business Media, LLC, part of Springer Nature 2020 Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 界面 ,  再結合 ,  赤方偏移 ,  超音波 ,  モリブデン ,  *染料 ,  光照射 ,  分解反応 ,  カチオン ,  光触媒 ,  ナノ構造 ,  バンドギャップ ,  ナノ粒子
準シソーラス用語： *ヘテロ構造 ,  無機イオン , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 光化学一般  (CB08010U)

タイトルに関連する用語 (7件)： Ce ,  ヘテロ構造 ,  設計 ,  毒性 ,  染料 ,  光劣化 ,  増強