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J-GLOBAL ID：202002264853282221   整理番号：20A0818768

走査型内部光電子顕微鏡を用いた金属/半導体および半導体/半導体界面のマッピング【JST・京大機械翻訳】

Mapping of Metal/Semiconductor and Semiconductor/Semiconductor Interfaces Using Scanning Internal Photoemission Microscopy

著者 (1件)： Shiojima Kenji (Graduate School of Electrical and Electronics Engineering, University of Fukui,Fukui,Japan)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2019  号： ICSJ  ページ： 169-172  発行年： 2019年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 金属/半導体界面の電気的特性を非破壊的にマッピングするために,走査内部光電子放出分光法を開発した。(1)熱分解,(2)高電圧印加によるデバイス劣化,(3)プロセス誘起表面損傷,(4)半導体と印刷金属粒子の結晶粒界,(5)半導体/半導体と金属-絶縁体-半導体界面への拡張,の観点からマッピング特性化の実験実証をレビューした。この技術は広帯域半導体高出力デバイスの開発に有用であることを確認した。Copyright 2020 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 広帯域 ,  キャラクタリゼーション ,  *界面 ,  熱分解 ,  印刷 ,  絶縁体 ,  電気的性質 ,  結晶粒界 ,  出力装置 ,  光電子放出 ,  *半導体
準シソーラス用語： 金属粒子 ,  電圧印加 ,  金属-半導体界面 ,  *光電子顕微鏡 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： 符号理論  (ND02030R) ,  専用演算制御装置  (JC04030Y) ,  音声処理  (JE05000E)

タイトルに関連する用語 (4件)： 走査型 ,  光電子顕微鏡 ,  界面 ,  マッピング