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J-GLOBAL ID：202002265552410517   整理番号：20A1254701

熱酸化架橋によるポリカルボシラン由来SiC(O)分離膜の微細構造の調整【JST・京大機械翻訳】

Tuning the microstructure of polycarbosilane-derived SiC(O) separation membranes via thermal-oxidative cross-linking

著者 (5件)： Wang Qing (Department of Chemical Engineering, Hiroshima University, 1-4-1 Kagami-yama, Higashi-Hiroshima 739-8527, Japan) ,  Yu Liang (Department of Chemical Engineering, Hiroshima University, 1-4-1 Kagami-yama, Higashi-Hiroshima 739-8527, Japan) ,  Nagasawa Hiroki (Department of Chemical Engineering, Hiroshima University, 1-4-1 Kagami-yama, Higashi-Hiroshima 739-8527, Japan) ,  Kanezashi Masakoto (Department of Chemical Engineering, Hiroshima University, 1-4-1 Kagami-yama, Higashi-Hiroshima 739-8527, Japan) ,  Tsuru Toshinori (Department of Chemical Engineering, Hiroshima University, 1-4-1 Kagami-yama, Higashi-Hiroshima 739-8527, Japan)
資料名： Separation and Purification Technology  (Separation and Purification Technology)
巻： 248  ページ： Null  発行年： 2020年 
JST資料番号： T0428B  ISSN： 1383-5866  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,ポリカルボシラン(PCS)の物理化学的性質と微細構造変化を,150~350°Cの硬化温度と350~850°Cの熱分解温度で系統的に調べた。酸化的架橋はPCS構造の熱安定性を著しく高めた。最終セラミック材料の元素組成と微細構造は空気硬化プロセスにより正確に調整できた。過剰または不十分な空気硬化による架橋は,結果として生じるセラミック材料の微小孔を崩壊または消失させることができる。250°Cで硬化し,その後750°Cで熱分解した最も有望なPCS由来膜は,500°Cで高い熱安定性と酸化抵抗を示し,500°CでのH_2/N_2選択性は31,H_2/C_3H_8選択性は1,740であった。また,CO2/CH4選択率40で,27°Cで1.8×10~6mol/(m~2s Pa)のCO2透過率を示した。さらに,500°Cにおける等モルH_2/C_3H_8混合物における透過率と選択性は,単一ガスにおけるそれらとほぼ同じであり,分離機構が分子ふるいに起因することを示唆した。これは,硬化プロセスを制御することにより,SiCベース膜の微細構造を調整する概念を提案する最初の研究である。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *酸化 ,  セラミック ,  熱分解 ,  微細構造 ,  耐酸化性 ,  熱安定性 ,  *炭化ケイ素 ,  二酸化炭素 ,  透過率 ,  *熱酸化 ,  *ポリカルボシラン
準シソーラス用語： 物理化学的性質 ,  元素組成 ,  *分離膜 ,  熱分解温度 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： ポリカルボシラン ,  酸化硬化 ,  SiC膜 ,  ガス分離 ,  H_2/C_3H_8分離

分類 (1件)： 膜分離  (XD02120Z)

タイトルに関連する用語 (6件)： 熱酸化 ,  架橋 ,  ポリカルボシラン ,  SiC ,  分離膜 ,  微細構造