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J-GLOBAL ID：202002265680306111   整理番号：20A0716284

初期応力を持つパルス熱流束と体積熱源による半導体媒質の磁気光熱理論【JST・京大機械翻訳】

A Magneto-Photothermal Theory of a Semiconductor Media Due to Pulse Heat Flux and Volumetric Heat Source with Initial Stress

著者 (3件)： Lotfy Kh. (Department of Mathematics, Faculty of Science, Zagazig University, Zagazig, Egypt) ,  Tantawi R. S. (Department of Mathematics, Faculty of Science, Zagazig University, Zagazig, Egypt) ,  Anwer N. (Department of Mathematics, Faculty of Science, Zagazig University, Zagazig, Egypt)
資料名： Silicon  (Silicon)
巻： 12  号： 4  ページ： 963-974  発行年： 2020年 
JST資料番号： W4947A  ISSN： 1876-9918  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,半導体弾性媒体の磁場,初期応力および体積熱源の影響を研究した。光熱励起過程と一般化熱弾性理論の間の結合を研究する場合に,熱メモリ(緩和時間)を考慮した。この問題をパルス熱流束の影響下での一次元方程式により円筒座標で記述した。プラズマ(キャリア密度),熱場(温度)および弾性波の間の相互作用を調べた。Laplace変換技術を用いて,いくつかの主要物理量の解析解を得た。勾配温度といくつかの機械的力を円筒に適用し,Fourier級数展開を時間領域における物理的変数の完全解を得るための数値法として用いた。シリコン材料は,数値シミュレーション研究に用いられる半導体の例である。得られた物理的変数の結果をグラフ的に説明し,議論した。Copyright Springer Nature B.V. 2019 Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 相互作用 ,  弾性 ,  Laplace変換 ,  記憶装置 ,  磁場 ,  *熱源 ,  一次元 ,  *半導体 ,  *パルス ,  *熱流束 ,  *媒質 ,  *磁気 ,  *プレストレス ,  プラズマ ,  熱弾性

著者キーワード (6件)： 光熱 ,  熱弾性 ,  磁場 ,  Laplace変換 ,  初期応力 ,  体積熱源

分類 (1件)： 弾性力学一般  (HC02010M)

タイトルに関連する用語 (8件)： 初期応力 ,  パルス ,  熱流束 ,  体積 ,  熱源 ,  媒質 ,  磁気 ,  理論