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J-GLOBAL ID：202002266158290269   整理番号：20A0328351

120GPaまでのSiO_2の融解挙動【JST・京大機械翻訳】

Melting behavior of SiO₂ up to 120 GPa

著者 (7件)： Andrault D. (Universite Clermont Auvergne, CNRS, IRD, OPGC, LMV, Clermont-Ferrand, France) ,  Morard G. (Sorbonne Universite, MNHN, CNRS, IRD, IMPMC, Paris, France) ,  Morard G. (Universite Grenoble Alpes, Universite Savoie Mont Blanc, CNRS, IRD, IFSTTAR, ISTerre, Grenoble, France) ,  Garbarino G. (European Synchrotron Radiation Facility, ESRF, Grenoble, France) ,  Mezouar M. (European Synchrotron Radiation Facility, ESRF, Grenoble, France) ,  Bouhifd M. A. (Universite Clermont Auvergne, CNRS, IRD, OPGC, LMV, Clermont-Ferrand, France) ,  Kawamoto T. (Department of Geoscience, Faculty of Science, Shizuoka University, Shizuoka, Japan)
資料名： Physics and Chemistry of Minerals  (Physics and Chemistry of Minerals)
巻： 47  号： 2  ページ： 10  発行年： 2020年 
JST資料番号： C0856A  ISSN： 0342-1791  CODEN： PCMIDU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 液体ケイ酸塩の構造は,圧力,温度,組成により変化する相対的存在度を持つ種々の原子実体の統計的混合物として一般的に記述される。残念ながら,この見解は,特に圧力下でのケイ酸塩メルト構造に関する実験報告が少ないため,理論的に残っている。SiO_2端成分のX線回折を行い,~120GPaと7000Kまでの融解曲線と~80GPaまでの融解構造を調べた。約80K/GPaの勾配をもつサブソリダス条件において,ステショバイトがコーサイト上で安定になるとき,約14GPa以上の融解曲線の急な増加を確認した。次に,約45GPaと5400Kで,融解曲線は著しく平坦化し,SiO_2融液構造の緻密化を反映している可能性が最も高い。拡散X線散乱の信号は融解曲線に沿ったSi配位数の4から6への変化と適合し,SiO_2ガラスの冷間圧縮中の類似の発展を報告する以前の研究と一致した。融解曲線がその傾斜を変化させる限られた圧力範囲(10から20GPa以内)のため,著者らは,高圧でSiO_2メルトにおける四面体SiO_4と八面体SiO_6ユニットの困難な共存を推測した。Copyright Springer-Verlag GmbH Germany, part of Springer Nature 2020 Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： ガラス ,  メルト ,  八面体 ,  配位数 ,  X線回折分析 ,  X線回折 ,  下部マントル ,  X線散乱 ,  ケイ酸塩 ,  緻密化 ,  高圧 ,  四面体 ,  *ケイ素
準シソーラス用語： 融液 ,  融解曲線 ,  *一酸化ケイ素 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： SiO_2 ,  融解線図 ,  溶融構造 ,  下部マントル圧力

分類 (1件)： 珪酸塩鉱物  (DE08030A)

タイトルに関連する用語 (1件)： 融解挙動