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J-GLOBAL ID:202002266287771782   整理番号:20A0706378

Angstromスケールでの界面活性剤,イオン及び溶媒の実験的深さプロファイル 陽イオン及び陰イオン界面活性剤及びそれらの塩析の研究【JST・京大機械翻訳】

Experimental Depth Profiles of Surfactants, Ions, and Solvent at the Angstrom Scale: Studies of Cationic and Anionic Surfactants and Their Salting Out
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資料名:
巻: 124  号: 11  ページ: 2218-2229  発行年: 2020年 
JST資料番号: W0921A  ISSN: 1520-6106  CODEN: JPCBFK  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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中性衝突イオン散乱分光法(NICISS)を用いて,オングストロームスケールでのイオン界面活性剤,対イオン,および溶媒分子の深さプロファイルを測定した。選択された界面活性剤は,液体グリセロール中の0.30m NaBrの不在および存在下で,0.010mのテトラヘキシルアンモニウム臭化物(THA+/Br-)および0.0050mのドデシル硫酸ナトリウム(Na+/DS-)である。NICISSは,液体の中と外に移動する5keVのHe原子のエネルギー損失を通して,元素C,O,Na,S,およびBrの深さプロファイルを決定する。それは次に深さに変換される。NaBrの不在下で,THA+とそのBr-対イオンが電荷引力のために分離し,バルク中よりも10Å幅で150倍濃縮された狭い二重層を形成することを見出した。NaBrの添加により,THA+は表面に塩析され,界面Br-濃度を3倍に増加させ,約30Åの深さにわたってアニオンを拡散させる。添加NaBrは同様にDSイオンの界面濃度を増加させ,それらの位置を広げる。逆に,溶解したBr-イオンは,界面領域内のDS-イオンからの電荷斥力のために,表面から0~40Åの深さで著しく減少した。これらの異なる界面Br-傾向は,以前に測定された気液反応性と相関し,ガス状Cl2は,THA+の存在下でBr-イオンと容易に反応するが,DS-の存在下では70倍低下し,界面活性剤頭基電荷がその深さプロフィルの変化を通してBr-の反応性を制御することを示した。Copyright 2020 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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