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J-GLOBAL ID：202002267522215757   整理番号：20A2739001

SUS420J2鋼,無酸素銅及びNiのスパッタエッチングによって作製した突起物の電界放出特性

Field Emission Properties of Protrusions Fabricated by Sputter Etching of SUS420J2 Steel, Oxygen Free Copper and Ni Plates

著者 (2件)： 久保隆 (広島国際学院大学総合教育センター) ,  中佐啓治郎 (広島国際学院大学 ハイテク・リサーチ・センター)
資料名： 表面と真空  (Vacuum and Surface Science)
巻： 63  号： 10  ページ： 542-547(J-STAGE)  発行年： 2020年 
JST資料番号： G0194B  ISSN： 2433-5835  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： SUS420J2ステンレス鋼,無酸素銅(OFC)および純Ni板状試験片を,SUS304ステンレス鋼またはOFCターゲットディスク上に置いて,150~400Wのスパッタ電力で2~180分間,Argonイオンスパッタエッチングを行った。2~20μmの範囲の底部直径を有する円錐状突起が,試験片上に種々の間隔で形成された。電界放出測定は,SUS420J2試験片が,試料片の中で最良の発光特性,すなわち,放出電流を取出すための最低電圧,約2mA/cm²の上限電流密度,および810の最大電界増強因子を持つが,それはその鋭い突起先端,小さな垂直角度および比較的広い突起間隔に起因することを示した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *ステンレス鋼 ,  無酸素銅 ,  ニッケル ,  アルゴン ,  *イオンエッチング ,  *電界放出 ,  円錐 ,  電流密度
準シソーラス用語： SUS420J2 ,  *スパッタエッチング

著者キーワード (10件)： スパッタエッチング ,  突出 ,  電界放出 ,  SUS420J2鋼 ,  酸素フリー銅 ,  スパッタエッチング ,  突出 ,  電界放出 ,  SUS420J2鋼 ,  酸素フリー銅

分類 (2件)： 熱電子放出,電界放出  (BM09020S) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (27件)：

• 1) I.W. Rangelow : J. Vac. Sci. Technol., B 19, 916 (2001).
• 2) W.J. Zhang, Y. Wu, W.K. Wong, X.M. Meng, C.Y. Chan, I. Bello and Y. Lifshitz : Appl. Phys. Lett. 83, 3365 (2003).
• 3) Z.L. Wang, Q. Wang, H.J. Li, J.J. Li, P. Xu, Q. Luo, A.Z. Jin, H.F. Yang and C.Z. Gu : Sci. Technol. Adv. Mater. 6, 799 (2005).
• 4) S.-H. Yang and N.-C. Hsu : Appl. Surf. Sci. 433, 639 (2018).
• 5) Y.W. Zhu, T. Yu, F.C. Cheong, X.J. Xu, C.T. Lim, V.B.C. Tan, J.T.L. Thong and C.H. Sow : Nanotechnology 16, 88 (2005).

タイトルに関連する用語 (7件)： SUS420J2 ,  無酸素銅 ,  Ni ,  スパッタエッチング ,  作製 ,  突起物 ,  電界放出