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J-GLOBAL ID：202002267999025436   整理番号：20A2579290

CO酸化用の低温Electron-供与触媒反応におけるシリコン基板に結合したサイズ選択白金クラスタの二機能性特性【JST・京大機械翻訳】

Bifunctional Property of Size-Selected Platinum Cluster Bound to Silicon Substrate in Low-Temperature Electron-Donation Catalysis for CO Oxidation

著者 (1件)： Yasumatsu Hisato (Cluster Research Laboratory, Toyota Technological Institute in East Tokyo Laboratory, Genesis Research Institute, Inc., Chiba, Japan)
資料名： Journal of Physical Chemistry C  (Journal of Physical Chemistry C)
巻： 124  号： 43  ページ： 23724-23729  発行年： 2020年 
JST資料番号： W1877A  ISSN： 1932-7447  CODEN： JPCCCK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： シリコン基板表面,Pt_N/Si(N=20および30;クラスタサイズ)に結合したサイズ選択白金クラスタのElectron供与触媒およびそのクラスタサイズ依存性を,双安定性速度論解析と組み合わせたCO酸化のターンオーバー速度を測定して調べた。Pt_N/Siを,基板へのサイズ選択Pt_N+の影響によって調製した。クラスタ衝撃堆積。O_2とCOの混合ガス流中のPt_N/Si上で進行するO_2+COからCO_2へのターンオーバー速度を,O_2とCOの温度と分圧の関数として質量分析により測定した。ヒステリシスが観察された:同じ温度と同じ分圧でも,加熱と冷却過程でターンオーバー速度が異なる。この特徴は,Pt_N/Si上のOとCOの表面吸着状態の双安定性によって説明された。金属酸化物に担持された小さなナノ粒子に対する双安定性の消失と比較して,Pt_N/Siの双安定性はO_2の効率的な解離活性化とPt_N/Si上の豊富なO吸着に由来すると結論した。反応ガス混合物中のCO分率に関するPt_30/Siの双安定性窓はPt_20/Siのそれより広い。このサイズ依存性は,二機能特性のための反応器サイズ間の適切な比率,O_2活性化のためのPt_N/Siの電子蓄積周辺,およびOとCOの間のLangmuir-Hinshelwood反応のための中心領域の重要性をもたらした。Copyright 2020 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 吸着 ,  混合気体 ,  質量分析 ,  衝撃 ,  *低温 ,  金属酸化物 ,  反応器 ,  *クラスタ ,  ターンオーバー ,  分圧 ,  双安定性 ,  ナノ粒子 ,  *シリコンウエハ ,  表面吸着 ,  *一酸化炭素酸化

分類 (1件)： 貴金属触媒  (CB06122I)

タイトルに関連する用語 (7件)： CO酸化 ,  低温 ,  触媒反応 ,  シリコン基板 ,  サイズ ,  白金クラスタ ,  性特性