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J-GLOBAL ID：202002268184544596   整理番号：20A0000295

200mm(8インチ)FZシリコン結晶成長の三相線に関する3次元数値解析

3D Numerical studies on the three-phase line in the 200 mm (8-inch) floating zone (FZ) silicon process

著者 (6件)： HAN Xue-Feng (Kyushu Univ.) ,  LIU Xin (Kyushu Univ.) ,  NAKANO Satoshi (Kyushu Univ.) ,  HARADA Hirofumi (Kyushu Univ.) ,  MIYAMURA Yoshiji (Kyushu Univ.) ,  KAKIMOTO Koichi (Kyushu Univ.)
資料名： 結晶成長国内会議予稿集(CD-ROM)  (JCCG予稿集(CD-ROM))
巻： 48th  ページ： ROMBUNNO.30p-A19  発行年： 2019年10月30日 
JST資料番号： L6730B  ISSN： 2188-7268  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

本文一部表示： 浮遊帯(FZ)プロセスは,低不純物を有するシリコン単結晶を製造するためのるつぼのない技術である。Ratnieksは,流体流と液体-固体界面の形状を調べるために,以前の研究における8インチFZプロセスのための最初の2D対称グローバルモデルを提...【JST・京大機械翻訳】【本文一部表示】

シソーラス用語： *ゾーン融解 ,  ケイ素 ,  結晶 ,  固液界面 ,  流体流 ,  熱伝達 ,  自由表面 ,  Marangoni対流 ,  融液成長 ,  状態図
準シソーラス用語： *シリコン結晶 ,  三相線

分類 (1件)： 半導体の結晶成長  (BK13040X)

タイトルに関連する用語 (5件)： シリコン ,  結晶成長 ,  三相 ,  3次元 ,  数値解析