文献
J-GLOBAL ID:202002268829993362   整理番号:20A0471314

大気圧化学蒸着による数層グラフェン成長中の界面現象における気相動力学の役割【JST・京大機械翻訳】

The role of gas-phase dynamics in interfacial phenomena during few-layer graphene growth through atmospheric pressure chemical vapour deposition
著者 (8件):
資料名:
巻: 22  号:ページ: 3481-3489  発行年: 2020年 
JST資料番号: A0271C  ISSN: 1463-9076  CODEN: PPCPFQ  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
複雑な化学蒸着(CVD)は現在,グラフェンを製造する最も実行可能な方法である。ほとんどの研究は,実験または計算研究を通して化学的側面に焦点を当てている。しかしながら,CVDにおける気相動力学は,グラフェン品質の改善において重要な役割を果たしている。質量輸送が大気圧CVD(APCVD)におけるグラフェン堆積の律速段階であることを考えると,気固界面(すなわち境界層)における界面現象は重要な制御因子である。従って,境界層の厚さを理解し,制御するだけで,均一な全被覆グラフェン堆積を達成できる。本研究では,APCVDの単純化計算流体力学解析を行い,堆積中の気相動力学を調べた。境界層の厚さも,カスタム化した均一ガスモデルの開発により推定した。界面現象,特に境界層とその中の物質輸送を研究した。これらの因子に及ぼすReynolds数の影響を調査し,特性化したグラフェン堆積物の実験的に得られた結果と比較した。次に,APCVDによるグラフェン成長に対する流体力学の重要な関係を議論し,解明した。Copyright 2020 Royal Society of Chemistry All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
炭素とその化合物 

前のページに戻る