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J-GLOBAL ID：202002269655593882   整理番号：20A1107004

ゾル-ゲル法により調製した架橋構造を持つ高温耐性及び疎水性ポリシロキサン系ポリウレタン膜【JST・京大機械翻訳】

High-temperature resistance and hydrophobic polysiloxane-based polyurethane films with cross-linked structure prepared by the sol-gel process

著者 (26件)： Xu Chang-an (Guangzhou Institute of Chemistry, Chinese Academy of Sciences, Guangzhou, 510650, PR China) ,  Xu Chang-an (University of Chinese Academy of Sciences, Beijing, 100049, PR China) ,  Qu Zhencai (Guangzhou Institute of Chemistry, Chinese Academy of Sciences, Guangzhou, 510650, PR China) ,  Qu Zhencai (University of Chinese Academy of Sciences, Beijing, 100049, PR China) ,  Tan Zhiyou (Guangzhou Institute of Chemistry, Chinese Academy of Sciences, Guangzhou, 510650, PR China) ,  Tan Zhiyou (University of Chinese Academy of Sciences, Beijing, 100049, PR China) ,  Nan Bingfei (Guangzhou Institute of Chemistry, Chinese Academy of Sciences, Guangzhou, 510650, PR China) ,  Nan Bingfei (University of Chinese Academy of Sciences, Beijing, 100049, PR China) ,  Meng Huifa (Guangzhou Institute of Chemistry, Chinese Academy of Sciences, Guangzhou, 510650, PR China) ,  Meng Huifa (University of Chinese Academy of Sciences, Beijing, 100049, PR China) ,  Wu Kun (Guangzhou Institute of Chemistry, Chinese Academy of Sciences, Guangzhou, 510650, PR China) ,  Wu Kun (University of Chinese Academy of Sciences, Beijing, 100049, PR China) ,  Wu Kun (Guangdong Provincial Key Laboratory of Organic Polymer Materials for Electronics, Guangzhou, 510650, PR China) ,  Wu Kun (CAS Engineering Laboratory for Special Fine Chemicals, Guangzhou, 510650, PR China) ,  Shi Jun (Guangzhou Institute of Chemistry, Chinese Academy of Sciences, Guangzhou, 510650, PR China) ,  Shi Jun (University of Chinese Academy of Sciences, Beijing, 100049, PR China) ,  Shi Jun (Guangdong Provincial Key Laboratory of Organic Polymer Materials for Electronics, Guangzhou, 510650, PR China) ,  Shi Jun (CAS Engineering Laboratory for Special Fine Chemicals, Guangzhou, 510650, PR China) ,  Lu Mangeng (Guangzhou Institute of Chemistry, Chinese Academy of Sciences, Guangzhou, 510650, PR China) ,  Lu Mangeng (University of Chinese Academy of Sciences, Beijing, 100049, PR China) ,  Lu Mangeng (Guangdong Provincial Key Laboratory of Organic Polymer Materials for Electronics, Guangzhou, 510650, PR China) ,  Lu Mangeng (CAS Engineering Laboratory for Special Fine Chemicals, Guangzhou, 510650, PR China) ,  Liang Liyan (Guangzhou Institute of Chemistry, Chinese Academy of Sciences, Guangzhou, 510650, PR China) ,  Liang Liyan (University of Chinese Academy of Sciences, Beijing, 100049, PR China) ,  Liang Liyan (Guangdong Provincial Key Laboratory of Organic Polymer Materials for Electronics, Guangzhou, 510650, PR China) ,  Liang Liyan (CAS Engineering Laboratory for Special Fine Chemicals, Guangzhou, 510650, PR China)
資料名： Polymer Testing  (Polymer Testing)
巻： 86  ページ： Null  発行年： 2020年 
JST資料番号： C0752B  ISSN： 0142-9418  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 架橋構造を有するポリシロキサン系ポリウレタン膜を,イソホロンジイソシアナート(IPDI),ポリジメチルシロキサン(PDMS),ポリカプロラクトン(PCL)ジオール,および3-アミノプロピルトリエトキシシラン(ATS)を用いたゾル-ゲル法により合成した。ATS末端ポリウレタンプレポリマの後,架橋ネットワーク構造が脱水と凝縮の過程を通して形成された。架橋構造を有する一連のポリシロキサン系ポリウレタン膜の疎水性,熱特性,表面形態,および機械的性質をさらに研究した。動的機械的熱分析研究は,架橋構造を有するポリシロキサン系ポリウレタン膜の架橋密度が,ATSの添加により改善されることを示した。架橋構造を有するポリシロキサン系ポリウレタン膜は,機械的強度を強化するだけでなく,耐熱性および疎水性も改善することができる。その結果,架橋構造を持つポリシロキサン系ポリウレタン膜の最大分解温度は475°Cに達し,疎水性は114.2°に増加し,機械的強度は16.7Mpaに増加し,それは対照群のそれよりもそれぞれ18.75%,7.53%,59.04%高かった。これは,主にゾル-ゲル過程により形成された架橋ネットワーク構造に起因し,セグメントの動きを制限し,材料の剛性を増加させる。その上,密な保護層が架橋により表面上に形成され,これが水分子の浸透を妨げる。興味深いことに,ATSの増加とともに,表面のRq値は増加傾向を示した。これはKamal Mohamed seeni Meeraらによる研究と対照的であり,Rq値は架橋密度の増加と共に減少することを示した。また,XPS特性化の結果から,表面のSi元素が増加することが分かった。これは,主に,材料表面上に生じるATSのゾル-ゲル現象に起因する。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： ケイ素 ,  *ポリウレタン ,  剛性 ,  *疎水性 ,  熱分析 ,  架橋度 ,  *ポリシロキサン ,  熱特性 ,  *ゾル-ゲル法 ,  水分子 ,  機械的強度 ,  分解温度
準シソーラス用語： 表面形態 ,  *架橋構造 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： ポリウレタン ,  耐熱性 ,  ポリシロキサン ,  疎水性 ,  表面トポグラフィー

分類 (2件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  橋かけ  (YH04100E)

物質索引 (1件)： イソホロンジイソシアナート

タイトルに関連する用語 (7件)： ゾル-ゲル法 ,  調製 ,  架橋構造 ,  高温耐性 ,  疎水性 ,  ポリシロキサン ,  ポリウレタン