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J-GLOBAL ID：202002270043213634   整理番号：20A2549365

電子ビーム蒸着Al_2O_3MgO薄膜の特性評価【JST・京大機械翻訳】

Characterization of electron beam deposited Al₂O₃MgO thin films

著者 (3件)： Tokas Raj B. (Bhabha Atomic Research Centre, Trombay, Mumbai-400085, India) ,  Jena Shuvendu (Bhabha Atomic Research Centre, Trombay, Mumbai-400085, India) ,  Thakur Sudhakar (Bhabha Atomic Research Centre, Trombay, Mumbai-400085, India)
資料名： AIP Conference Proceedings  (AIP Conference Proceedings)
巻： 2265  号： 1  ページ： 030335-030335-4  発行年： 2020年 
JST資料番号： D0071C  ISSN： 0094-243X  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 精密光学デバイスを設計するには,優れた光学的,化学的,機械的などを有する新しい材料に対する要求が常にある。Al_2O_3MgOは,優れた機械的,光学的および化学的特性を示し,光学コーティングおよびデバイスの開発に用いる可能性のある候補になる。本研究では,Al_2O_3MgO薄膜を電子ビーム蒸着により堆積した。その光学的および形態学的特性を,挑戦的な光学被覆の設計と開発を目的とする透過および原子間力顕微鏡測定により評価した。Copyright 2020 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *薄膜 ,  光学素子 ,  キャラクタリゼーション ,  *電子ビーム蒸着 ,  原子間力顕微鏡 ,  モルフォロジー
準シソーラス用語： 光学被覆 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  光物性一般  (BM08010A)

タイトルに関連する用語 (3件)： 電子ビーム蒸着 ,  薄膜 ,  特性評価