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J-GLOBAL ID：202002271246169914   整理番号：20A1039017

金属水素化物:エピタキシャル成長と電子特性

Metal Hydrides: Epitaxial Growth and Electronic Properties

著者 (4件)： SHIMIZU Ryota (Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN) ,  SHIMIZU Ryota (JST-PRESTO, Saitama, JPN) ,  OGUCHI Hiroyuki (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  HITOSUGI Taro (Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN)
資料名： Journal of the Physical Society of Japan  (Journal of the Physical Society of Japan)
巻： 89  号： 5  ページ： 051012.1-051012.7  発行年： 2020年05月15日 
JST資料番号： G0509A  ISSN： 0031-9015  CODEN： JUPSA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高圧の硫化水素(H₂S)における200K以上の温度での超伝導の報告は,金属水素化物とそれらの物理特性に大きな関心をもたらした。金属水素化物の基礎的理解とデバイス応用両方が進歩したため,単結晶またはエピタキシャル薄膜を用いた研究が不可欠である。しかし,今日まで,いくつかの金属水素化物の単結晶とエピタキシャル薄膜が作製されており,これらの材料に関する基礎・応用研究の両方は,酸化物や窒化物と比べて明らかにされていない。本論文では,金属水素化物エピタキシャル薄膜の合成技術を確立し,新しい金属水素化物機能を探索することを目的とした最近の研究をレビューした。それは金属水素化物のエピタキシャル成長と特性に焦点を合わせた。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 水素化物 ,  *エピタクシー ,  パルスレーザ蒸着 ,  マグネトロンスパッタリング ,  チタン化合物 ,  イットリウム化合物 ,  蒸着膜 ,  係数 ,  金属-絶縁体転移 ,  ヒドリドホウ酸塩 ,  リチウム化合物 ,  *電気伝導率 ,  薄膜成長
準シソーラス用語： Hall係数 ,  イオン伝導率 ,  エピタクシー成長 ,  *金属水素化物 ,  反応性マグネトロンスパッタリング

分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  その他の無機化合物の電気伝導  (BM03044O)

引用文献 (57件)：

• R. Mohtadi and S. Orimo, Nat. Rev. Mater. 2, 16091 (2017).
• A. Unemoto, M. Matsuo, and S. Orimo, Adv. Funct. Mater. 24, 2267 (2014).
• G. Kobayashi, Y. Hinuma, S. Matsuoka, A. Watanabe, M. Iqbal, M. Hirayama, M. Yonemura, T. Kamiyama, I. Tanaka, and R. Kanno, Science 351, 1314 (2016).
• K. Fukui, S. Iimura, T. Tada, S. Fujitsu, M. Sasase, H. Tamatsukuri, T. Honda, K. Ikeda, T. Otomo, and H. Hosono, Nat. Commun. 10, 2578 (2019).
• T. Mongstad, C. Platzer-Björkman, J. P. Maehlen, L. P. A. Mooij, Y. Pivak, B. Dam, E. S. Marstein, B. C. Hauback, and S. Zh. Karazhanov, Sol. Energy Mater. Sol. Cells 95, 3596 (2011).

タイトルに関連する用語 (3件)： 金属水素化物 ,  エピタキシャル成長 ,  電子