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J-GLOBAL ID：202002271526407635   整理番号：20A2726589

アルカリ現像可能なネガ型フォトレジスト用の光ベース発生器で定式化した超耐熱ポリイミド【JST・京大機械翻訳】

An ultra heat-resistant polyimide formulated with photo-base generator for alkaline-developable, negative-type photoresist

著者 (6件)： Tseng Ling-Ya (Department of Molecular Science and Engineering, National Taipei University of Technology, Taipei 10608, Taiwan) ,  Lin Yan-Cheng (Department of Chemical Engineering, National Taiwan University, Taipei 10617, Taiwan) ,  Kuo Chih-Cheng (Department of Chemical Engineering, National Taiwan University, Taipei 10617, Taiwan) ,  Kuo Chi-Ching (Department of Molecular Science and Engineering, National Taipei University of Technology, Taipei 10608, Taiwan) ,  Ueda Mitsuru (Department of Chemical Engineering, National Taiwan University, Taipei 10617, Taiwan) ,  Chen Wen-Chang (Department of Chemical Engineering, National Taiwan University, Taipei 10617, Taiwan)
資料名： Reactive & Functional Polymers  (Reactive & Functional Polymers)
巻： 157  ページ： Null  発行年： 2020年 
JST資料番号： H0954A  ISSN： 1381-5148  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ポリ(アミド酸)(PAA)および光塩基発生器(PBG)に基づくアルカリ開発可能および陰性型感光性ポリイミド(PSPI)を,化学増幅法を用いて開発した。PAA(PDA-BPDA)は,p-フェニレンジアミン(PDA)と4,4′-ビフタル酸二無水物(BPDA)からなり,得られたPIは,高剛性で線形の骨格により,優れた熱的および熱的機械的安定性を有する。PBG含有量,ポスト露光焼成(PEB)温度,PEB時間,およびPAAの分子量を含むPSPIの光リソグラフィーパラメータを,PBGとして(E)-3-(2-ヒドロキシ-4-メトキシフェニル)-1-(ピペリジン-1-イル)プロペ-2-en-1-オン(HMPP)の採用によって研究した。PDAとBPDAの間のモル比0.9/1.0のPAA(PDA-BPDA)とHMPP(15wt%からPAA)に基づくPSPIは,365nm光(i-line),170°Cで5分間のPEB,および2.38wt%テトラメチルアンモニウムヒドロキシドとイソプロパノールの水溶液で開発したとき,感度が142mJ/cm2,および0.58のコントラストを示した。(i-line)。。170°Cで5分間,PEBは,170°Cで5分間曝露された。。”PSPI”は,それぞれ142mJ/cm2の感度と,0.58のコントラストを示した。(PSPI)は,365nmの光(i-line),170°Cで5minのPEB,および,2.38wt%のテトラメチルアンモニウムヒドロキシドとイソプロパノールの水溶液で開発した。明確な負の4-μm特徴パターンが得られ,250°Cで加熱するとPIパターンにイミド化され,走査電子顕微鏡により確認された。これは,PSPIsに対する高い熱安定性を有する高剛性骨格を利用する最初の研究である。優れた熱的および熱的機械的安定性は,開発したPSPIがマイクロエレクトロニクスにおいて非常に有望であることを明らかにした。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： コントラスト ,  走査電子顕微鏡 ,  現像液 ,  *フォトレジスト ,  熱安定性 ,  分子量 ,  *現像 ,  露光 ,  アミド酸 ,  *定式化 ,  マイクロエレクトロニクス ,  フォトリソグラフィー ,  イミド化
準シソーラス用語： 感光性ポリイミド , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 感光性ポリイミド ,  ネガ型フォトレジスト ,  光ベースジェネレータ ,  アルカリ現像剤

分類 (1件)： 重縮合  (CG04050Z)

物質索引 (1件)： テトラメチルアンモニウムヒドロキシド

タイトルに関連する用語 (7件)： アルカリ ,  現像 ,  ネガ ,  フォトレジスト ,  発生器 ,  定式化 ,  ポリイミド