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J-GLOBAL ID：202002272421349575   整理番号：20A2638677

エピタキシャルMnSi(111)/Si(111)薄膜における面内および面外カイラルスキルミオンの安定性:表面ねじれ対容易面異方性【JST・京大機械翻訳】

Stability of in-plane and out-of-plane chiral skyrmions in epitaxial MnSi(111)/Si(111) thin films: Surface twists versus easy-plane anisotropy

著者 (7件)： Leonov Andrey O. (Department of Chemistry, Faculty of Science, Hiroshima University Kagamiyama, Higashi Hiroshima, Hiroshima 739-8526, Japan) ,  Leonov Andrey O. (IFW Dresden, Postfach 270016, D-01171 Dresden, Germany) ,  Tambovtcev Ivan M. (Department of Physics, St. Petersburg State University, St. Petersburg 198504, Russia) ,  Lobanov Igor S. (Department of Physics, St. Petersburg State University, St. Petersburg 198504, Russia) ,  Lobanov Igor S. (Faculty of Physics and Engineering, ITMO University, 197101 Saint Petersburg, Russia) ,  Uzdin Valery M. (Department of Physics, St. Petersburg State University, St. Petersburg 198504, Russia) ,  Uzdin Valery M. (Faculty of Physics and Engineering, ITMO University, 197101 Saint Petersburg, Russia)
資料名： Physical Review. B  (Physical Review. B)
巻： 102  号： 17  ページ： 174415  発行年： 2020年 
JST資料番号： D0746A  ISSN： 2469-9950  CODEN： PRBMDO  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 容易面異方性を有する立方晶ヘリ磁性体の薄膜に対する再考された理論的相図は,以前に報告された[E.A.Karhuら,[引用文献情報:原文を参照]]のように異なるトポロジーを持つことが示された。印加磁場の面内および面外方向の両方に対して,相図は,広い範囲の異方性パラメータに対して重複する安定なスカイミオンの広範囲な領域を示した。面外スカイミオンの存在は以前の理論モデル内で矛盾しているが,付加的な表面ねじれがそれらの安定性をもたらすが,中程度の容易平面異方性は面内スカイミオンの安定性範囲を増加させることを証明した。さらに,異方性と表面ねじれ間の相互作用は,表面に関して傾斜した安定な螺旋状態を生じさせる。バルクヘリ磁性体には存在しなかったので,この斜め螺旋は薄膜ナノシステムの相図で広大な領域を占有し,円錐とヘリコイド間の連結リンクとして機能する。著者らの理論は,エピタキシャルMnSi(111)/Si(111)薄膜における面内と面外のスカイミオンの更新された実験研究のための明確な方向を与える。Copyright 2020 The American Physical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 位相幾何学 ,  異方性 ,  *エピタクシー ,  状態図 ,  相互作用 ,  *薄膜 ,  円錐 ,  立方晶系 ,  *ねじり変形 ,  螺旋磁性
準シソーラス用語： 理論モデル ,  印加磁場 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 表面の電子構造  (BM02080J) ,  磁気異方性・磁気機械効果一般  (BM06101B)

引用文献 (1件)：

• Phys. Rev. B 85, 094429 (2012)

タイトルに関連する用語 (7件)： エピタキシャル ,  Si ,  薄膜 ,  安定性 ,  ねじれ ,  容易 ,  異方性