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J-GLOBAL ID：202002272662573028   整理番号：20A2260432

Bi_42Sn_2Ag_2Ti(Ce,Ga)合金フィラーと石英ガラスの低温活性接合に及ぼすチタンの影響【JST・京大機械翻訳】

Influence of Titanium on Low Temperature Active Bonding of Quartz Glass with Bi42Sn2Ag2Ti(Ce,Ga) Alloy Filler

著者 (4件)： Chen Dongyuan (South China University of Technology,School of Microelectronics,Guangzhou,China) ,  Cheng Lanxian (South China Agricultural University,School of Electronic Engineering,Guangzhou,China) ,  Yue Xuejun (South China Agricultural University,School of Electronic Engineering,Guangzhou,China) ,  Li Guoyuan (South China University of Technology,School of Microelectronics,Guangzhou,China)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2020  号： ICEPT  ページ： 1-5  発行年： 2020年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 石英ガラスは,大きな技術的重要性があり,マイクロエレクトロニクスパッケージング基板または窓のための可能な候補としてより魅力的になる。本研究では,大気条件で170°CでBi_42Sn_2Ag_2Ti(Ce,Ga)合金充填剤によるはんだ付け石英ガラス基板に対する活性元素チタン(Ti)の重要な役割を研究した。はんだ付けプロセスの時間は,それぞれ1,15,30および60分に設定した。はんだ付け時間に影響される活性元素Tiのミクロ組織と動的進展を調べた。ガラス/はんだ界面を走査型電子顕微鏡により観察し,各元素の分布をエネルギー分散X線分光により分析した。結果は,石英ガラスと活性はんだの間の界面でのTiの吸着と偏析によって,結合を達成できることを示した。石英ガラス/はんだ界面でのTi元素の吸着と偏析を理論的に解析し,界面反応を調べた。Ti元素の拡散動力学の理解は,さらに活性はんだ付けの機構を説明することができる。Copyright 2020 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 界面 ,  *ガラス ,  *合金 ,  走査電子顕微鏡 ,  *低温 ,  偏析 ,  *石英 ,  *チタン ,  はんだ付 ,  *石英ガラス ,  はんだ ,  X線分光法 ,  マイクロエレクトロニクス
準シソーラス用語： 界面反応 ,  ガラス基板 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 図形・画像処理一般  (JE04010I)

タイトルに関連する用語 (8件)： Ce ,  Ga ,  合金 ,  フィラー ,  石英ガラス ,  低温 ,  活性 ,  チタン