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J-GLOBAL ID:202002272898821457   整理番号:20A0792811

一軸圧縮試験下でのポリスチレンナノ粒子の機械的性質の分子動力学シミュレーション【JST・京大機械翻訳】

Molecular dynamics simulation of mechanical properties of polystyrene nanoparticles under uniaxial compression test
著者 (4件):
資料名:
巻: 178  ページ: Null  発行年: 2020年 
JST資料番号: W0443A  ISSN: 0927-0256  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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化学機械平坦化(CMP)は半導体技術における重要なステップである。CMP後のウエハの表面は,低い粗さで無欠陥である。高分子粒子はCMPにおける研磨剤として使用する可能性のある候補の一つである。したがって,これらの研磨剤の機械的性質の研究は非常に重要である。本研究では,ポリスチレン(PS)ナノ粒子のサイズ依存弾性率と硬度を分子動力学(MD)シミュレーションにより調べた。弾性係数と硬度に及ぼす歪の影響を調べ,また圧縮中のPSナノ粒子の機械的応答に及ぼす歪速度の影響を研究した。さらに,負荷中のポップイン事象を,ナノ粒子内部の体積解析とせん断歪分布を用いて正確に調べた。結果は,弾性係数が粒子サイズの減少により直線的に増加し,一方硬度は非線形挙動を有することを示した。予測を経験的測定と比較し,良好な一致を達成した。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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固体デバイス製造技術一般  ,  その他の表面処理 
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