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文献
J-GLOBAL ID:202002273031880022   整理番号:20A2048539

シリカガラスの更なる低光損失化に向けた高温高圧合成条件の探索

Toward lower optical loss of silica glass-Search for the high-temperature and high-pressure synthesis conditions
著者 (9件):
資料名:
巻: 2020  ページ: ROMBUNNO.1C17  発行年: 2020年03月02日 
JST資料番号: X0505B  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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最近の報告は,800°Cで0.2GPaで急冷した熱圧縮シリカガラスと非常に低いRayle...【JST・京大機械翻訳】【本文一部表示】
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ガラスの性質・分析・試験 
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