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J-GLOBAL ID：202002273091068342   整理番号：20A2488117

液相剥離法によるMoS_2ナノシートを剥離するための少量界面活性剤による溶媒のレオロジーの操作【JST・京大機械翻訳】

Steer the Rheology of Solvent with Little Surfactant to Exfoliate MoS₂ Nanosheet by Liquid Phase Exfoliation Method

著者 (2件)： Zhou Dan (State Key Laboratory of Fine Chemicals, School of Chemical Engineering, Dalian University of Technology, Dalian 116024, P. R. China) ,  Yin Jianzhong (State Key Laboratory of Fine Chemicals, School of Chemical Engineering, Dalian University of Technology, Dalian 116024, P. R. China)
資料名： Nano  (Nano)
巻： 15  号： 10  ページ： 2050118  発行年： 2020年 
JST資料番号： W2379A  ISSN： 1793-2920  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： シンガポール (SGP)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 界面活性剤系L64とアルコール混合物を用いて,MoS_2を剥離した。ナノシートの品質に及ぼす界面活性剤の影響を減らすために,L64の濃度は極めて低い値0.0325mMに減少した。一般的超音波浴を利用すれば,ナノシートの生産収率は1時間あたり約5%に増加し,AFMからの統計的結果はナノシートの40%が4nm厚以下であることを示した。レオロジーキャラクタリゼーションは,界面活性剤アルコール混合物がずり減粘流体であるが,L64系の粘度が,高速せん断領域(400s-1より高い)の剪断速度で直接変化し,さらに,せん断強度に影響し,従って,高速剪断での粘度が剥離システムに対する有効性の指標として考慮できることを示した。剥離MoS_2を水素発生反応で評価し,バルクMoS_2と比較して,4wt%Pt/FL-MoS_2は10mA・cm[数式:原文を参照]で366mVから273mVへの過電圧を改善した。本研究は,はるかに少ない残留物を有する2D MoS_2を作製する容易で効果的な経路を提示し,2D材料を剥離するために,クリーンで非毒性のシステムを利用するためのより多くの機会をもたらした。新しい界面活性剤系Pluronic L64とtert-ブチルアルコール(TBA)混合物を用いて,MoS_2を剥離し,L64の濃度を0.0325mMまで減少させ,臨界ミセル濃度よりはるかに低かった。剥離溶媒のレオロジー研究は,高速せん断領域(>400s-1)の粘度が適切な剥離系の指標であることを示した。Copyright 2020 World Scientific Publishing Company All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 剪断 ,  超音波 ,  粘度 ,  *レオロジー ,  過電圧 ,  剪断強さ ,  *界面活性剤 ,  臨界ミセル濃度 ,  アルコール ,  *液相 ,  二次元 ,  剪断速度 ,  *ナノシート
準シソーラス用語： Pluronic ,  ずり減粘 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： MoS_2 ,  液相剥離 ,  界面活性剤 ,  レオロジー ,  水素発生反応

分類 (2件)： 塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  光化学一般  (CB08010U)

タイトルに関連する用語 (5件)： 液相 ,  ナノシート ,  界面活性剤 ,  溶媒 ,  レオロジー