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J-GLOBAL ID:202002273096101886   整理番号:20A2533576

ZnOナノ粒子の存在下でのUV/H_2O_2を用いた水溶液からのヒ素の光触媒除去の研究【JST・京大機械翻訳】

Investigation of photo-catalytic removal of arsenic from aqueous solutions using UV/H2O2 in the presence of ZnO nanoparticles
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巻: 207  号: 11  ページ: 1605-1615  発行年: 2020年 
JST資料番号: D0482A  ISSN: 0098-6445  CODEN: CEGCAK  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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飲用水中のヒ素の存在はヒトにとって重大な問題である。ヒ素含有水は消費者に不可給な効果を持っている。従って,この研究の全目的は,水溶液からヒ素を分解する光触媒プロセスを提供することであった。研究した変数は,H_2O_2濃度,初期ヒ素濃度,ZnO投与量,pHおよび接触時間を含んだ。出力光の強度は600mJcm-2と等価であった。UVとH_2O_2単独によるヒ素効率の除去は,それぞれ15%と8%であった。酸性条件では,複合プロセスは,ZnOのpH_zpcがほぼ9であった。ZnOナノ粒子の最適線量は1gL-1であった。ZnOの平均直径は,52.27から304.8nmであった。最適接触時間を45分間選択した。この時間の後,ヒ素の除去効率は,わずかな差異を持った。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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触媒操作 
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