文献

J-GLOBAL ID：202002273244720999   整理番号：20A0597516

膜におけるミューオン注入実験:深さ分解情報の取得【JST・京大機械翻訳】

Muon implantation experiments in films: Obtaining depth-resolved information

著者 (10件)： Simoees A. F. A. (CFisUC, Department of Physics, University of Coimbra, R. Larga, P-3004-516 Coimbra, Portugal) ,  Alberto H. V. (CFisUC, Department of Physics, University of Coimbra, R. Larga, P-3004-516 Coimbra, Portugal) ,  Vilao R. C. (CFisUC, Department of Physics, University of Coimbra, R. Larga, P-3004-516 Coimbra, Portugal) ,  Gil J. M. (CFisUC, Department of Physics, University of Coimbra, R. Larga, P-3004-516 Coimbra, Portugal) ,  Cunha J. M. V. (International Iberian Nanotechnology Laboratory, 4715-330 Braga, Portugal) ,  Curado M. A. (CFisUC, Department of Physics, University of Coimbra, R. Larga, P-3004-516 Coimbra, Portugal) ,  Salome P. M. P. (International Iberian Nanotechnology Laboratory, 4715-330 Braga, Portugal) ,  Prokscha T. (Laboratory for Muon Spin Spectroscopy, Paul Scherrer Institute, CH-5232 Villigen PSI, Switzerland) ,  Suter A. (Laboratory for Muon Spin Spectroscopy, Paul Scherrer Institute, CH-5232 Villigen PSI, Switzerland) ,  Salman Z. (Laboratory for Muon Spin Spectroscopy, Paul Scherrer Institute, CH-5232 Villigen PSI, Switzerland)
資料名： Review of Scientific Instruments  (Review of Scientific Instruments)
巻： 91  号： 2  ページ： 023906-023906-7  発行年： 2020年 
JST資料番号： D0517A  ISSN： 0034-6748  CODEN： RSINAK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 低エネルギー(1~30keVの範囲)を持つ注入された正のミュー粒子は,薄膜と多層構造の研究において非常に有用な局所プローブである。典型的には数十ナノメートルのオーダーでの平均ミューオン阻止深さはμmの注入エネルギーと材料の密度の関数であるが,阻止範囲は広い領域にわたって広がり,それはまた数十ナノメートルのオーダーである。したがって,実験パラメータの深さ依存性を抽出するためには適切なシミュレーション手順が必要である。ここでは,低エネルギーμ粒子スピン分光実験における実験パラメータの注入エネルギー依存性から深さ分解情報を抽出する方法を示した。この方法と対応する結果を,半導体膜,Cu(In,Ga)Se_2について例示し,Al_2O_3の薄い層で被覆したが,低エネルギーμ粒子で研究した任意のヘテロ構造に適用することができた。もし効果が実験データに存在するならば,この方法はその位置と深さ範囲を同定するための重要なツールであることを示した。Copyright 2020 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： シミュレーション ,  多層構造 ,  薄膜 ,  *μ粒子 ,  プローブ ,  エネルギー依存性
準シソーラス用語： ヘテロ構造 ,  深さ依存性 ,  低エネルギー , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： X線技術  (BA02060D) ,  プラズマ診断  (BJ02090L) ,  顕微鏡法  (BK01040E)

タイトルに関連する用語 (4件)： ミューオン ,  注入 ,  実験 ,  分解