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J-GLOBAL ID：202002274345984638   整理番号：20A0176161

光照射によるスピロピラン基を有するフッ素化ポリイミドの可逆的表面濡れ性制御

Reversible Surface Wettability Control of Fluorinated Polyimides Having Spiropyran Groups by Photo-irradiation

著者 (2件)： Tsuda Yusuke (Department of Biochemistry & Applied Chemistry, Kurume National College of Technology) ,  Yamauchi Genta (Department of Biochemistry & Applied Chemistry, Kurume National College of Technology)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology (Web)  (Journal of Photopolymer Science and Technology (Web))
巻： 32  号： 3  ページ： 481-484(J-STAGE)  発行年： 2019年 
JST資料番号： U2132A  ISSN： 1349-6336  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： トリフルオロメチル基を有する新規ポリイミドを合成し,Mitsunobu反応による側鎖へのスピロピラン基の導入に成功した。ガラス基板上に得たポリイミドの膜を調製し,これらの膜の表面濡れ性をUV/VIS光照射の前後に測定した。その結果,新規スピロピラン含有フッ素化ポリイミドの初期接触角は最大40°改善した。予想通り,接触角はUV光照射により減少し,VIS光照射により回復した。しかし,接触角の変化は約10°であり,これは以前に報告された結果と同じ値であった。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *ポリイミド ,  *濡れ ,  高分子膜 ,  アルキル基 ,  脂肪族フッ素化合物 ,  *Mitsunobu反応 ,  接触角 ,  *光照射 ,  *紫外線照射 ,  可逆性 ,  化学合成 ,  側鎖 ,  フッ素化重合体 ,  分子構造
準シソーラス用語： トリフルオロメチル基 ,  *可視光照射 ,  高分子構造 ,  高分子合成 ,  *紫外光照射 ,  *表面濡れ性

著者キーワード (5件)： ポリイミド ,  スピロピラン ,  UV-Vis光照射 ,  可逆制御 ,  表面濡れ性

分類 (2件)： 高分子固体の物理的性質  (CG02024U) ,  高分子と低分子との反応  (CG03020L)

物質索引 (5件)： 5-[2-(1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2-ベンゾフラン-5-イル)-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン-2-イル]-1,3-ジヒドロ-2-ベンゾフラン-1,3-ジオン ,  2-アミノ-5-[2-(4-アミノ-3-ヒドロキシフェニル)-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン-2-イル]フェノール ,  5-[(1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロ-2-ベンゾフラン-5-イル)オキシ]-1,3-ジヒドロ-2-ベンゾフラン-1,3-ジオン ,  4,4′-ジアミノ-(1,1′-ビフェニル)-3,3′-ジオール ,  2-{3’,3’-ジメチル-6-ニトロ-1’,3’-ジヒドロスピロ[クロメン-2,2’-インドール]-1’-イル}エタン-1-オール

引用文献 (23件)：

• 1. “Polyimides”, M. Ghosh and K. L. Miital, Eds., Dekker, New York (1996).
• 2. “Polyimides and Other High Temperature Polymers: Synthesis, Characterization and Applications”, M. Ghosh, Ed., Vol. 5, Koninklike Brill NV, Leiden (2009).
• 3. Y. Tsuda, “Polyimides and Other High Temperature Polymers: Synthesis, Characterization and Applications”, M. Ghosh, Ed., Vol. 5, Koninklike Brill NV, Leiden (2009) 17.
• 4. Y. Tsuda, “Features of Liquid Crystal Display Materials and Processes”, N. V. Kamania, Ed., Intech, Croatia (2011) 3.
• 5. C. Kim, M. Nogi, K. Suganuma, and Y. Yamamoto, ACS Appl. Mater. Interfaces, 4 (2012) 2167.

タイトルに関連する用語 (5件)： 光照射 ,  スピロピラン ,  フッ素化 ,  ポリイミド ,  表面濡れ性