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J-GLOBAL ID:202002274546420731   整理番号:20A1235613

光学応用のための酸化物下層を用いた原子拡散接合

Atomic diffusion bonding using oxide underlayers for optical applications
著者 (8件):
資料名:
巻: 59  号: SB  ページ: SBBC03 (5pp)  発行年: 2020年02月 
JST資料番号: G0520B  ISSN: 0021-4922  CODEN: JJAPB6  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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Ti薄膜を用いた石英ガラスウエハの原子拡散接合は,ウエハ表面上のSiO2下地層を用いて,接合界面で100%の光透過率を,後結合低温アニーリング後に強い結合エネルギーと共に提供した。透過型電子顕微鏡を用いて得られた断面像は,350°Cでのアニーリング後の接合界面がナノ結晶粒を含む非晶質構造から成ることを示した。電子エネルギー損失分光法を用いた構造解析により,ポスト結合アニーリングはSiO2下層から解離した酸素によるTiの酸化を促進し,Ti酸化物はTiO2またはTi4O7に近く形成することを示した。この酸化により,アニーリングに起因する高い結合強度をもつ100%の光透過率が得られた。さらに,著者らは,SiO2-Nb2O5下層を用いてガラスとサファイアのウエハを接合するためにこの技術を適用し,100%の光透過率と屈折率整合の制御が接合界面で同時に達成されることを実証した。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (1件):
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固体デバイス製造技術一般 
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