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J-GLOBAL ID：202002275043843351   整理番号：20A0176121

光照射追加によって二次パターン化可能なUV-インプリント再加工可能樹脂

Secondary Patternable UV-Imprinted Reworkable Resin by Additional Photoirradiation

著者 (2件)： Okamura Haruyuki (Department of Applied Chemistry, Graduate School of Engineering, Osaka Prefecture University) ,  Tachi Hideki (Osaka Research Institute of Industrial Science and Technology)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology (Web)  (Journal of Photopolymer Science and Technology (Web))
巻： 32  号： 2  ページ： 237-242(J-STAGE)  発行年： 2019年 
JST資料番号： U2132A  ISSN： 1349-6336  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 再加工可能なモノマを用いて,UVインプリント樹脂上への二次パターン作製を成功裏に達成した。分子中にエポキシ部分と熱分解可能な第三級エステル部分の両方を有するメタクリル酸単量体を,再加工可能な単量体として用いた。マイクロメーターオーダーのパターンを作製するために,光ラジカル開始剤存在下において365nmの照射により再加工可能な単量体のUVインプリンティングを行った。光酸発生剤を含むパターン化樹脂を用いたフォトマスクを通した254nmの照射,続く分化のない110°Cでの1分間の焼成によって二次パターンの形成を実行した。in situFTIRおよび質量分析による測定により,パターン形成は硬化した再加工可能なモノマにおける第三エステル結合の酸触媒分解によるものであることを明らかにした。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 重合体 ,  再加工 ,  パターン形成 ,  露光 ,  押付成形 ,  紫外線照射 ,  フォトマスク ,  *リソグラフィー ,  光重合型樹脂 ,  カルボン酸エステル ,  不飽和カルボン酸 ,  単量体 ,  光酸発生剤 ,  走査型プローブ顕微鏡 ,  FTIR分光法 ,  GC-MS分析 ,  転化率 ,  樹脂 ,  紫外線硬化樹脂 ,  メタクリラート類 ,  マスク
準シソーラス用語： 再加工可能樹脂 ,  パターン化 ,  パターン露光 ,  UVナノインプリント樹脂 ,  *UVナノインプリントリソグラフィー ,  メタクリル酸類

著者キーワード (4件)： 再加工可能な樹脂 ,  二次パターン ,  UVインプリント ,  パターン露光

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (21件)：

• 1. B. D. Gates, Q. Xu, M. Stewart, D. Ryan, C. G. Willson, and G. M. Whitesides, Chem. Rev., 105 (2005) 1171.
• 2. H. Schift, J. Vac. Sci. Technol. B., 26 (2008) 458.
• 3. S. Matsui H. Hiroshima, Y. Hirai, and M. Nakagawa, J. Photopolym. Sci. Technol., 27 (2014) 61.
• 4. K. Mohamed, M. M. Alkaisi, and R. J. Blaikie, J. Vac. Sci. Technol. B, 26 (2008) 2500.
• 5. N. Kehagias, A. Francone, M. Guttmann, F. Winkler, A. Fernández, and C. M. S. Torres, J. Vac. Sci. Technol. B, 36 (2018) 06JF01.

タイトルに関連する用語 (3件)： 光照射 ,  パターン化 ,  再加工