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J-GLOBAL ID：202002275456830155   整理番号：20A1381206

高温ITO薄膜歪計調製およびピエゾ抵抗性能【JST・京大機械翻訳】

Fabrication and piezoresistance of high temperature ITO thin film strain gauge

著者 (8件)： Yang Shenyong (上海交通大学微米/納米加工技術国家級重点実験室,上海,200240) ,  Zhang Congchun (上海交通大学微米/納米加工技術国家級重点実験室,上海,200240) ,  Yang Zhuoqing (上海交通大学微米/納米加工技術国家級重点実験室,上海,200240) ,  Li Hongfang (上海交通大学微米/納米加工技術国家級重点実験室,上海,200240) ,  Yao Jinyuan (上海交通大学微米/納米加工技術国家級重点実験室,上海,200240) ,  Huang Manguo (中国航空工業集団公司北京長城航空測控技術研究所,北京,101111) ,  Wang Hong (上海交通大学微米/納米加工技術国家級重点実験室,上海,200240) ,  Ding Guifu (上海交通大学微米/納米加工技術国家級重点実験室,上海,200240)
資料名： Cailiao Gongcheng  (Cailiao Gongcheng)
巻： 48  号： 4  ページ： 145-150  発行年： 2020年 
JST資料番号： C2125A  ISSN： 1001-4381  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 高温薄膜歪計は極端条件熱端部品の歪測定に広く応用されている。ITO薄膜歪計は通常1000°C以上のひずみ測定に応用でき、ITO薄膜の微細構造、XPSスペクトル、抵抗温度特性及び圧力抵抗応答を研究するために、マグネトロンスパッタリングによりセラミック基板上にITO薄膜ひずみ計を作製した。高温純N2中でITO薄膜を熱処理した。結果は,抵抗の温度係数が,-750×10-6°C-1で安定であり,1200°Cで0.0018h-1の抵抗ドリフト率および16.ITO膜が,高温で安定した抵抗温度係数および低いドリフト率を持つことを示す。これは,高温端の部品の歪の測定に,可能性がある。Data from Wanfang. Translated by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *高温 ,  *薄膜 ,  微細構造 ,  歪計 ,  歪測定 ,  ドリフト ,  スペクトル ,  マグネトロンスパッタリング
準シソーラス用語： *圧電抵抗 ,  セラミック基板 ,  温度特性 ,  抵抗温度係数 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  光物性一般  (BM08010A) ,  セラミック・磁器の性質  (YC03030G)

タイトルに関連する用語 (4件)： ITO薄膜 ,  歪計 ,  調製 ,  ピエゾ抵抗