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J-GLOBAL ID:202002275499395840   整理番号:20A0544557

シリコン格子結合器の帯域幅増強のための集積分散構造【JST・京大機械翻訳】

Integrated dispersive structures for bandwidth-enhancement of silicon grating couplers
著者 (7件):
資料名:
巻: 52  号:ページ: 119  発行年: 2020年 
JST資料番号: A0205A  ISSN: 0306-8919  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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フォトニック集積回路格子結合器は,効率的で安定なファイバ-チップリンクを確立するために一般的に用いられている。しかしながら,ファイバ対チップ界面の実際の結合効率は使用波長に強く依存し,格子設計パラメータにより決定される明確なターゲット波長で最大値を示す。本論文では,集積分散構造を追加することにより,シリコン格子結合器の光帯域幅の増強を検討した。これらは,単層,プリズム状の幾何学,および付加的な窒化ケイ素格子によって実現される。分散層による帯域幅増強の理論的考察を行い,既存の格子結合器設計に適用した。Cバンドにおいて-0.65dBの最大効率で90nmまでのシミュレーション1dB帯域幅を達成することができ,これは元の結合器設計と比較して約2倍の増強である。Copyright The Author(s) 2020 Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (3件):
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光導波路,光ファイバ,繊維光学  ,  光デバイス一般  ,  その他の光伝送素子 
タイトルに関連する用語 (5件):
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