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J-GLOBAL ID:202002275678989235   整理番号:20A0662784

共形ナノ構造被覆のためのSnS_2分子前駆体【JST・京大機械翻訳】

A SnS2 Molecular Precursor for Conformal Nanostructured Coatings
著者 (16件):
資料名:
巻: 32  号:ページ: 2097-2106  発行年: 2020年 
JST資料番号: T0893A  ISSN: 0897-4756  CODEN: CMATEX  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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アミン/チオール系分子インクに基づくSnS_2ナノ構造層を作製するための簡単で汎用性のある拡張可能な方法を示した。比率アミン/チオールおよびSn/S,および反応条件を系統的に研究し,トレメラー様SnS_2形態を有する相純粋SnS_2平面および共形層を生成した。このようなナノ構造層は優れた光電流密度によって特徴付けられる。同じ戦略を用いて,初期溶液にグラフェン酸化物(GO)を簡単に導入することによってSnS_2-グラフェン複合材料を製造することができた。簡便に,溶媒混合物はSnとSe粉末を同時に溶解し,GOを還元することができる。さらに,SnS_2-xSe_x三成分被覆と相純粋SnSe_2は,初期インク処方に適切な量のSeを簡単に組み込むことによって容易に製造できる。最後に,非担持SnS_2のグラムスケール量を生成するこの前駆体インクの可能性を調べた。Copyright 2020 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (3件):
分類
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塩  ,  金属酸化物及び金属カルコゲン化物の結晶構造  ,  二次電池 
タイトルに関連する用語 (4件):
タイトルに関連する用語
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