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J-GLOBAL ID:202002275885371992   整理番号:20A1049168

On-terraceグラフォエピタキシによるC8-BTBTナノワイヤの異方成長制御

著者 (3件):
資料名:
巻: 31  号:ページ: 109-114  発行年: 2020年05月18日 
JST資料番号: L3415A  ISSN: 2423-8805  CODEN: MOEBFM  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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・ライン&スペース(LS)パターン上のterrace上のグラフォエピタキシプロセスを研究。<br/>・Ehrlich-Schw?bel障壁(ESB)が駆動原理であるon-terraceグラフォエピタキシをC8-BTBTナノワイヤの成長で実証。<br/>・SiO<sub>2</sub>とC8-BTBTの両方が存在する2種類のステップ端におけるESBがC8-BTBTナノワイヤの1次元成長を誘導し,先端と側端部での優先的な核形成を含むナノワイヤの成長を議論。
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分類 (1件):
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有機化合物の薄膜 
物質索引 (1件):
物質索引
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タイトルに関連する用語 (3件):
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