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J-GLOBAL ID：202002276026218317   整理番号：20A1051596

全散乱関数に対するテクスチャ補正【JST・京大機械翻訳】

Texture corrections for total scattering functions

著者 (2件)： Cervellino Antonio (Swiss Light Source, Paul Scherrer Institute, CH-5232 Villigen PSI, Switzerland) ,  Frison Ruggero (Center for X-ray Analytics, Empa Swiss Federal Laboratories for Materials Science and Technology, CH-8600 Duebendorf, Switzerland)
資料名： Acta Crystallographica. Section A. Foundations of Crystallography  (Acta Crystallographica. Section A. Foundations of Crystallography)
巻： 76  号： 3  ページ： 302-317  発行年： 2020年 
JST資料番号： A0315B  ISSN： 0108-7673  CODEN： ACACEQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 多くの機能性材料は,今日,いくつかの小規模または広範囲に優先配向効果を示すナノ粒子の形で合成されている。このような種類のシステムの回折データの解析は,並進対称性の仮定から予想される全散乱アプローチの枠組みにおいて最も良く実行される。従って,最も一般的な全散乱関数,特にDebye散乱方程式(DSE)に対して修正式を導き,これにより原子座標と集合組織パラメータの関数としてテクスチャ平均微分断面積を得た。修正DSEは,集合組織効果を説明する高次の球状Bessel関数を符号化する。実験的形状と対称性から生じる選択則を検討した。加えて,集合組織効果の双対性を導入して,I(Q)とI(Q)の両方に及ぼす集合組織の影響を示した。本論文は,結晶学的コンピューティングの開発に含まれるものに対して有用であることを意味するいくつかの定義と付録を含んでいる。Copyright 2020 Wiley Publishing Japan K.K. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： Bessel関数 ,  *散乱 ,  集合組織 ,  双対性 ,  対称性 ,  微分断面積 ,  結晶学 ,  選択則 ,  優先配向 ,  機能材料 ,  *散乱関数 ,  ナノ粒子
準シソーラス用語： 原子座標 ,  並進対称性 ,  回折データ , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (3件)： Debye散乱方程式 ,  テクスチャ ,  対分布関数

分類 (1件)： 結晶学一般  (BK05010Z)

タイトルに関連する用語 (2件)： 散乱関数 ,  テクスチャ