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J-GLOBAL ID：202002276411768557   整理番号：20A0477996

残留応力制御による圧電駆動マイクロレンズアクチュエータにおける面外ストロークの増強【JST・京大機械翻訳】

Enhancing out-of-plane stroke in piezoelectrically driven micro-lens actuator with residual stress control

著者 (3件)： Chen Ssu-Han (School of Electrical Engineering and Telecommunications, University of New South Wales, Sydney, Australia) ,  Michael Aron (School of Electrical Engineering and Telecommunications, University of New South Wales, Sydney, Australia) ,  Kwok Chee Yee (School of Electrical Engineering and Telecommunications, University of New South Wales, Sydney, Australia)
資料名： Sensors and Actuators. A. Physical  (Sensors and Actuators. A. Physical)
巻： 303  ページ： Null  発行年： 2020年 
JST資料番号： B0345C  ISSN： 0924-4247  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本論文は,高性能圧電駆動マイクロレンズアクチュエータの製作と特性化を提示した。製作方法は,アクチュエータの初期たわみを予め定義するために,構造中の残留応力を制御することを含み,より大きな作動ストロークをもたらす。残留応力制御は,アクチュエータ構造層として厚い引張ポリシリコンを形成するために,超高真空電子ビーム蒸着膜のユニークな特性を利用する。これは構造層の上部に圧縮RFスパッタSiO_2層により補完される。このような膜は,アクチュエータの電極と圧電層から発生する残留モーメントを補償するために指定された応力値を得るために,種々の製造段階でその後アニールされる。構造層における異なる残留応力レベルを有する同じ設計の2つのマイクロレンズアクチュエータを作製し,比較した。ここで,1つのデバイスは,-47μmに近い初期たわみと別の-98μmを持つ。より大きな下向きの初期たわみを有する装置は,他の装置より57.2%高い作動感度を示した。アクチュエータはそれぞれ145μmと228μmの大きな面外ストロークを示し,22Vでは2kHzに近い共振周波数を示した。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 超高真空 ,  たわみ ,  *残留応力 ,  蒸着 ,  引張 ,  モーメント ,  生産工程 ,  焼なまし ,  共振周波数 ,  *マイクロレンズ ,  ポリシリコン ,  電子ビーム ,  蒸着膜 ,  *圧電気
準シソーラス用語： *圧電駆動 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： D_31UNIMOPRH ,  圧電アクチュエータ ,  ゾル-ゲルPZT ,  応力制御 ,  面外作動 ,  UHV Eビーム蒸着ポリシリコン

分類 (2件)： 圧電デバイス  (NC03110I) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： 残留 ,  圧電駆動 ,  マイクロレンズ ,  アクチュエータ ,  ストローク ,  増強