文献

J-GLOBAL ID：202002278978744697   整理番号：20A2709133

アルカリ条件下でのCu単結晶上でのCOの電気化学酸化【JST・京大機械翻訳】

Electrochemical Oxidation of CO on Cu Single Crystals under Alkaline Conditions

著者 (7件)： Tiwari Aarti (Department of Physics, Technical University of Denmark (DTU), Denmark) ,  Heenen Hendrik H. (Department of Physics, Technical University of Denmark (DTU), Denmark) ,  Bjornlund Anton Simon (Department of Physics, Technical University of Denmark (DTU), Denmark) ,  Hochfilzer Degenhart (Department of Physics, Technical University of Denmark (DTU), Denmark) ,  Chan Karen (Department of Physics, Technical University of Denmark (DTU), Denmark) ,  Horch Sebastian (Department of Physics, Technical University of Denmark (DTU), Denmark) ,  Horch Sebastian (Center for Bachelor of Engineering Studies, Technical University of Denmark (DTU), Denmark)
資料名： ACS Energy Letters  (ACS Energy Letters)
巻： 5  号： 11  ページ： 3437-3442  発行年： 2020年 
JST資料番号： W5040A  ISSN： 2380-8195  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： アルカリ条件下での銅(Cu)上のCOの電気化学的酸化の共同実験理論研究を行った。Cu単結晶表面のサイクリックボルタンメトリーを用いて,Cuテラスとステップの両方が,熱力学的平衡ポテンシャルの正に正(0.03~0.14V)の電位でCO酸化活性を示すことを実証した。過電位は,金(≒0.26V)よりも0.23~0.12V低く,今まで,このプロセスで最も活性な触媒と考えられている。著者らの理論計算は,Cuの活性が,CO酸化電位と過剰*CO-*OHカップリング障壁の下での同時*COと*OH吸着の有利な組み合わせから生じることを示唆する。実験的に観察された開始電位は*OH吸着の計算開始と一致した。さらに,ステップ上の*OH吸着の開始は,より強い競合吸着によりテラスよりも*CO-*OH相互作用により影響を受けることを示した。全体として,Cu(100)は考察したファセットの最低過電圧(0.03V)を示した。Copyright 2020 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 吸着 ,  相互作用 ,  *単結晶 ,  電位 ,  *アノード酸化 ,  *銅 ,  過電圧 ,  ファセット ,  サイクリックボルタンメトリー
準シソーラス用語： テラス ,  競争吸着 ,  理論計算 ,  化学的酸化 ,  酸化電位 ,  一酸化炭素酸化 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 電気化学反応  (CB07050F)

タイトルに関連する用語 (5件)： アルカリ ,  Cu ,  単結晶 ,  CO ,  電気化学酸化