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J-GLOBAL ID：202002279120520362   整理番号：20A2626796

ナノ多孔性ポリスチレン-ブロック-ポリメチルメタクリレート薄膜における半導体ナノ粒子のテーラード包接【JST・京大機械翻訳】

Tailored inclusion of semiconductor nanoparticles in nanoporous polystyrene-block-polymethyl methacrylate thin films

著者 (9件)： Malafronte Anna (Dipartimento di Scienze Chimiche, Universita degli Studi di Napoli Federico II, Complesso Monte S. Angelo, Via Cintia, I-80126, Napoli, Italy) ,  Emendato Alessandro (Dipartimento di Scienze Chimiche, Universita degli Studi di Napoli Federico II, Complesso Monte S. Angelo, Via Cintia, I-80126, Napoli, Italy) ,  Auriemma Finizia (Dipartimento di Scienze Chimiche, Universita degli Studi di Napoli Federico II, Complesso Monte S. Angelo, Via Cintia, I-80126, Napoli, Italy) ,  Sasso Carmen (Dipartimento di Scienze Chimiche, Universita degli Studi di Napoli Federico II, Complesso Monte S. Angelo, Via Cintia, I-80126, Napoli, Italy) ,  Laus Michele (Dipartimento di Scienze e Innovazione Tecnologica (DISIT), Universita Del Piemonte Orientale A. Avogadro, Viale T. Michel 11, I-1512, Alessandria, Italy) ,  Murataj Irdi (Divisione di Metrologia Dei Materiali Innovativi e Scienze Della Vita, Istituto Nazionale di Ricerca Metrologica, Strada Delle Cacce 91, 10135, Torino, Italy) ,  Murataj Irdi (Dipartimento di Scienza Applicata e Tecnologia, Politecnico di Torino, Corso Duca degli Abruzzi, 24, 10129 Torino, Italy) ,  Lupi Federico Ferrarese (Divisione di Metrologia Dei Materiali Innovativi e Scienze Della Vita, Istituto Nazionale di Ricerca Metrologica, Strada Delle Cacce 91, 10135, Torino, Italy) ,  De Rosa Claudio (Dipartimento di Scienze Chimiche, Universita degli Studi di Napoli Federico II, Complesso Monte S. Angelo, Via Cintia, I-80126, Napoli, Italy)
資料名： Polymer  (Polymer)
巻： 210  ページ： Null  発行年： 2020年 
JST資料番号： D0472B  ISSN： 0032-3861  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ナノスケールで制御された形態を有するナノ多孔性/ナノ複合材料薄膜を,層状ポリスチレン-b-ポリ(メチルメタクリレート(PS-b-PMMA)ブロック共重合体(BCP)の自己集合を利用して,透明で導電性の酸化インジウムスズ(ITO)担体上に調製した。ランダムPS-r-PMMA共重合体をITO担体にグラフトし,連続熱アニーリングにより,PSとPMMAラメラナノドメインの垂直配向を達成した。架橋反応の活性化とPMMAブロックの選択的除去により,PSドメインの相対的配置を固定できる適切なUV-C線量で試料を照射することによって,約8nmに等しい幅のナノチャネルに交互の幅のPSラメラナノドメインによって特性化される安定で再現性のあるナノ多孔性形態を得た。安定な形態を有するナノ多孔性ハイブリッド複合材料を,UV照射プロトコルを,PSドメイン(ナノ複合材料第1/ナノポア)中の酸化亜鉛(ZnO)ナノ粒子(NP)の選択的包接,またはUV照射によるPMMA除去によって遊離したナノチャネル中のセレン化カドミウム(CdSe)NPsの選択的浸透(ナノポア第1/ナノ複合材料)により,その方法の強さを示す,のどちらかで得た。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 浸透 ,  *薄膜 ,  *ポリメタクリル酸メチル ,  紫外線照射 ,  酸化亜鉛 ,  セレン化カドミウム ,  酸化インジウムスズ ,  導電性 ,  自己集合 ,  *ナノ粒子
準シソーラス用語： ドメイン構造 ,  ナノ細孔 ,  ナノスケール ,  ナノチャネル ,  垂直配向 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (3件)： ブロック共重合体 ,  ナノ多孔質薄膜 ,  ナノ複合材料

分類 (2件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  高分子固体の力学的性質  (CG02023D)

タイトルに関連する用語 (5件)： ナノ多孔性 ,  ポリスチレン ,  ポリメチルメタクリレート ,  薄膜 ,  半導体ナノ粒子