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J-GLOBAL ID：202002279779960865   整理番号：20A1060314

自然太陽光照射下のRGO-TiO_2複合材料を用いた抗菌トリクロサンの光触媒分解の増強【JST・京大機械翻訳】

Enhanced photocatalytic degradation of antimicrobial triclosan using rGO-TiO₂ composite under natural solar illumination

著者 (6件)： Kaur Harkirat (Water Technology & Management Division, CSIR-National Environmental Engineering Research Institute, Nagpur, India) ,  Dahake Rashmi (Environmental Materials Division, CSIR-National Environmental Engineering Research Institute, Nagpur, India) ,  Maddigapu Pratap Reddy (Environmental Materials Division, CSIR-National Environmental Engineering Research Institute, Nagpur, India) ,  Hippargi Girivyankatesh (Environmental Materials Division, CSIR-National Environmental Engineering Research Institute, Nagpur, India) ,  Pophali Girish R. (Wastewater Technology Division, CSIR-National Environmental Engineering Research Institute, Nagpur, India) ,  Bansiwal Amit (Environmental Materials Division, CSIR-National Environmental Engineering Research Institute, Nagpur, India)
資料名： Journal of Materials Science. Materials in Electronics  (Journal of Materials Science. Materials in Electronics)
巻： 31  号： 8  ページ： 6045-6058  発行年： 2020年 
JST資料番号： W0003A  ISSN： 0957-4522  CODEN： JMTSAS  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,元のTiO_2中に還元した酸化グラフェン(rGO)を組み込んだ後のトリクロサンの光触媒分解の増強を調べた。トリクロサンは一般的に使用されるパーソナルケア製品に見られる抗菌化合物である。本研究は,改良されたHummerと水熱法を用いた還元型酸化グラフェン-チタニア複合材料の合成を含んだ。複合材料中の最適rGO含有量は10wt%(RT10)であることが分かった。複合材料を,X線回折(XRD),Raman分光法,Fourier変換赤外分光法(FTIR),UV-Vis分光法,走査電子顕微鏡(SEM),およびBrunauer-Emmett-Teller表面積(BETSA)を用いて特性化した。実験条件,すなわち,触媒用量,初期トリクロサン濃度,および溶液pHを研究した。複合材料の表面積は,TiO_2とGOのものより実質的に高かった。光触媒反応は,RT10で得られた0.251h~(-1)の最高速度定数で擬一次速度論に従った。除去実験は,分解機構におけるヒドロキシルラジカルの役割を示した。複合材料はバンドギャップの狭まりに起因する自然太陽光下で効率的な劣化を示した。それはまた,マトリックス効果にもかかわらずトリクロサンを含む二次排水において効果的に実行した。このように,複合材料は水と廃水の三次処理における有望な光触媒として有望な応用を有する。Copyright Springer Science+Business Media, LLC, part of Springer Nature 2020 Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： X線回折 ,  水熱合成 ,  走査電子顕微鏡 ,  廃水 ,  *太陽光 ,  下水処理水 ,  ヒドロキシルラジカル ,  *光触媒 ,  バンドギャップ ,  FTIR分光法
準シソーラス用語： 二酸化チタン ,  *光触媒分解 ,  酸化グラフェン ,  還元型酸化グラフェン , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 光化学一般  (CB08010U)

物質索引 (1件)： トリクロサン

タイトルに関連する用語 (7件)： 太陽光 ,  RGO ,  複合材料 ,  抗菌 ,  トリクロサン ,  光触媒分解 ,  増強