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J-GLOBAL ID：202002279968638927   整理番号：20A1082961

オプトエレクトロニクスのためのNd:PbI_2/FTO薄膜システムの構造,形態および光-非線形挙動【JST・京大機械翻訳】

Structure, morphology and opto-nonlinear behaviors of Nd:PbI₂/FTO thin film system for optoelectronics

著者 (8件)： Khan Ziaul Raza (Department of Physics, College of Science, University of Hail, Hail, 2440, Saudi Arabia) ,  Shkir Mohd (Advanced Functional Materials & Optoelectronics Laboratory (AFMOL), Department of Physics, College of Science, King Khalid University, Abha, 61413, Saudi Arabia) ,  Shkir Mohd (Research Center for Advanced Materials Science (RCAMS), King Khalid University, Abha, 61413, Saudi Arabia) ,  Khan Aslam (King Abdullah Institute for Nanotechnology, King Saud University, Riyadh, 11451, Saudi Arabia) ,  Mariappan Sivalingam Muthu (Department of Science and Humanities, Vel Tech Multitech Dr. Rangarajan Dr. Sakunthala Engineering College, Chennai, 600 062, Tamil Nadu, India) ,  Balaji M. (Department of Physics, Bannari Amman Institute of Technology, Sathyamanglam, 638401, Tamil Nadu, India) ,  Sheikh Md Raheijuddin (Department of Physics, D M College of Science, Dhanamanjuri University, Imphal, 795001, Manipur, India) ,  AlFaify S. (Advanced Functional Materials & Optoelectronics Laboratory (AFMOL), Department of Physics, College of Science, King Khalid University, Abha, 61413, Saudi Arabia)
資料名： Solid State Sciences  (Solid State Sciences)
巻： 103  ページ： Null  発行年： 2020年 
JST資料番号： A0236B  ISSN： 1293-2558  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： フランス (FRA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： デバイスグレードPbI_2ナノ構造薄膜を,FTO基板上に異なる(0,1,3および5wt%)Ndドーピング濃度を有する費用効果的なゾル-ゲルスピンコーティング法により開発した。膜はNdドーピング濃度に対して優れた構造,振動,電子構造,非線形光学特性を示した。試料のX線回折と振動分光法は,(001)面に沿った優れた結晶質と成長を示した。膜の表面形態研究は,表面を通して粒子のコンパクトで均一な分布を示した。また,Ndドーピング量により,ナノロッドからナノ粒子への形態変化が認められた。膜の透過率は太陽スペクトルの可視領域で~70~75%であることが分かった。膜のバンドギャップは2.36~2.45eVの範囲で得られた。誘電率ε_1およびε_2の屈折率n,消光係数k,実数および虚数部も解析した。三次非線形光学感受率χ~(3)と二次屈折率n~(2)のような三次非線形光学パラメータを,プロットしたエネルギー領域上で2.10×10~-1~1~1.54×10~8esuと5.10×10~-1~0~9.18×10~8esuの範囲で得た。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： X線回折 ,  屈折率 ,  *薄膜 ,  誘電率 ,  *ネオジム ,  ドーピング ,  スペクトル ,  *オプトエレクトロニクス ,  透過率 ,  虚数 ,  ゾル-ゲル法 ,  バンドギャップ ,  ナノロッド
準シソーラス用語： 可視領域 ,  表面形態 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： Nd:PbI_2/FTO ,  構造特性 ,  光学誘電研究 ,  三次非線形光学特性

分類 (3件)： その他の無機化合物の電気伝導  (BM03044O) ,  光物性一般  (BM08010A) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (6件)： オプトエレクトロニクス ,  Nd ,  FTO ,  薄膜 ,  形態 ,  非線形挙動