文献
J-GLOBAL ID:202002280897702971   整理番号:20A1318865

シリセンでのTl,PbおよびBiの重元素単分子層の吸着:DFT研究【JST・京大機械翻訳】

Adsorption of heavy-element monolayers of Tl, Pb, and Bi at silicene: A DFT study
著者 (1件):
資料名:
巻: 697  ページ: Null  発行年: 2020年 
JST資料番号: C0129B  ISSN: 0039-6028  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
本報告ではシリセンにおけるX(Tl,Pb,Bi)の単分子層の吸着と系の動的安定性を調べた。密度汎関数理論計算に基づいて,X原子は基板と強く結合し,新しいX-Siハイブリッド状態を生じ,X@シリセンの好ましい表面配置をもたらすことが分かった。好ましい構造のBorn-Oppenheimer量子動力学を,MoS_2に担持したX@シリセンに対して200と500Kのセット温度で行った。シミュレーションは,Tlの1×1相とBiが200Kで動的安定であると予測し,一方,500Kでは3または4原子パターンで吸着原子基が3×3再構成が可能であることを示唆した。対照的に,Pb@シリセン-1×1は500Kで安定に予測された。すべての構造は,金属バンドに存在する巨大スピン分裂(GSS)を示し,それは,重元素吸着が,固有スピン分裂のない2D材料の表面でGSSを生じさせるための効果的な方法であることを示した。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
物理的手法を用いた吸着の研究 

前のページに戻る