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J-GLOBAL ID：202002281796833485   整理番号：20A0766047

蒸気及び自己生成NH_3雰囲気中で合成した増強光触媒活性を有するP,K共ドープ多孔性G-C_3N_4【JST・京大機械翻訳】

P, K co-doped porous g-C₃N₄ with enhanced photocatalytic activity synthesized in vapor and self-producing NH₃ atmosphere

著者 (5件)： Shen Huawei (School of Chemical Engineering&Technology, Chemical Engineering Research Center and State Key Laboratory of Chemical Engineering, Tianjin University, Tianjin 300350, China) ,  Li Mingrui (School of Chemical Engineering&Technology, Chemical Engineering Research Center and State Key Laboratory of Chemical Engineering, Tianjin University, Tianjin 300350, China) ,  Guo Wei (School of Chemical Engineering&Technology, Chemical Engineering Research Center and State Key Laboratory of Chemical Engineering, Tianjin University, Tianjin 300350, China) ,  Li Guoning (School of Chemical Engineering&Technology, Chemical Engineering Research Center and State Key Laboratory of Chemical Engineering, Tianjin University, Tianjin 300350, China) ,  Xu Chunjian (School of Chemical Engineering&Technology, Chemical Engineering Research Center and State Key Laboratory of Chemical Engineering, Tianjin University, Tianjin 300350, China)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 507  ページ： Null  発行年： 2020年 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 多孔性P,K共ドープg-C_3N_4光触媒を,蒸気および自己生成NH_3雰囲気下で,初めて,簡便な一段階法により合成することに成功した。熱重合中に,残留水から発生した蒸気と自己生成NH_3を反応雰囲気として用い,比表面積の改善とバンド配列のダウンシフトをもたらした。さらに,二重機能性修飾剤としてのK_2HPO_4は,KドーピングだけでなくPドーピングを可能にした。これは,電子透過の効率を改善するために結晶化度を増加させ,光吸着能力を向上させるためにバンドギャップのエネルギーを減少させ,その酸化能力を強化するための価電子バンドの可能性を増加させ,光触媒性能を向上させる。RhBの分解を用いて光触媒活性を研究し,結果をゼロ次速度論に適合させることができた。最適共ドープg-C_3N_4の反応速度は,純粋なg-C_3N_4のものの2.7倍であった。サイクル実験を実施し,安定性を研究した。さらに,光触媒機構をトラッピング実験によって探究し,結果はX線光電子分光法(XPS)とUV-Visプロファイルによって推定されたバンド構造と一致した。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： バンド構造 ,  反応速度 ,  *触媒活性 ,  熱重合 ,  *ドーピング ,  結晶度 ,  速度論 ,  価電子バンド ,  X線光電子分光法 ,  *光触媒 ,  バンドギャップ
準シソーラス用語： 光吸着 ,  トラッピング ,  *光触媒活性 ,  化学修飾剤 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： G-C_3N_4 ,  共ドープ ,  バンドアライメントダウンシフト ,  光触媒 ,  自己生産雰囲気

分類 (1件)： 光化学一般  (CB08010U)

タイトルに関連する用語 (7件)： 蒸気 ,  自己 ,  雰囲気 ,  増強 ,  光触媒活性 ,  ドープ ,  多孔性