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J-GLOBAL ID：202002282028868122   整理番号：20A1793040

微量H_2Oの存在下における正DC部分放電下でのSF_6の分解機構【JST・京大機械翻訳】

Decomposing Mechanism of SF₆ under Positive DC Partial Discharge in the Presence of Trace H₂O

著者 (2件)： Liu Min (Chongqing Industry Polytechnic College, China) ,  Liu Min (State Key Laboratory of Power Transmission Equipment & System Security and New Technology, Chongqing University, China)
資料名： ACS Omega  (ACS Omega)
巻： 5  号： 22  ページ： 13389-13395  発行年： 2020年 
JST資料番号： W5044A  ISSN： 2470-1343  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 正のDC部分放電(PD)下でのSF_6分解特性に及ぼすH_2Oの影響は重要である。SF_6分解成分の生産特性を用いて,DC SF_6絶縁装置におけるPD故障重症度を評価するために,SF_6分解成分の生成とH_2O含有量の間の対応する関係と数学的表現を同定し,達成しなければならない。このように,SF_6分解成分に対するH_2Oの影響を反映するために,正のDC PD下でのSF_6分解実験を行った。結果は,H_2O含有量が0から970ppmvに増加するとき,1秒間の平均放電量と放電反復率がわずかに減少し,次に,H_2O含有量が970から5120ppmvまで増加すると増加することを示す。SO_2F_2,SOF_2,およびSO_2の有効生成速度は,H_2O含有量とともに増加するが,SOF_4のそれは減少する。最後に,成分およびH_2O含有量の特性比(c-(SO_2F_2)+c-(SOF_4))/(c-(SOF_2)+c-(SO_2))の間の対応する関係および数学的表現を達成し,それはDC SF_6ガス絶縁装置におけるPD故障診断のための参照を与えることができた。Copyright 2020 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *放電 ,  故障 ,  故障診断 ,  *部分放電 ,  ガス絶縁
準シソーラス用語： 生成速度 ,  分解特性 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 絶縁材料  (NA04030W) ,  気体放電  (BJ03020T)

タイトルに関連する用語 (3件)： DC ,  部分放電 ,  分解