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J-GLOBAL ID：202002282473785450   整理番号：20A1884403

逆オフセット印刷における最近の進歩 高解像度印刷エレクトロニクスのための新たなプロセス

Recent advances in reverse offset printing: an emerging process for high-resolution printed electronics

著者 (3件)： Kusaka Yasuyuki (Sensing System Research Center, National Institute of Advanced Science and Technology, Tsukuba, Ibaraki 305-8565, Japan) ,  Fukuda Nobuko (Sensing System Research Center, National Institute of Advanced Science and Technology, Tsukuba, Ibaraki 305-8565, Japan) ,  Ushijima Hirobumi (Sensing System Research Center, National Institute of Advanced Science and Technology, Tsukuba, Ibaraki 305-8565, Japan)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 59  号： SG  ページ： SG0802 (11pp)  発行年： 2020年04月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 印刷エレクトロニクスに特化した高分解能印刷技術の機構,材料,プロセスをレビューした。逆オフセット印刷と接着コントラスト平板印刷を含む先進的な印刷法は,ポリジメチルシロキサン(PDMS)によるインク溶剤の吸収を使用して,インク転写前にインクを半凝固させる。パターニングの原理は濡れから接着と破壊へと変化する;液体インクのパターニング中に発生する解像度の問題(例えば,拡散,分裂,合体,バルジ,およびコーヒーリング形状)を避けることができ,単一μmの特徴を実現できた。逆オフセット印刷の基本を総括した後に,プロセス中に遭遇するパターニング機構と接触力学の詳細をインキ製剤の設計概念と共に示した。多層電子デバイスに対する相補的プロセス(例えば,高スループット生産のためのウェット・オン・ウェット,埋込み電極形成,テーパ形成,垂直相互接続)およびパターンサイズ完全性の予測を提示した。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： オフセット印刷 ,  技術 ,  ポリジメチルシロキサン ,  高分解能 ,  *電子技術 ,  *パターン形成 ,  パターン転写 ,  接着 ,  濡れ ,  *印刷
準シソーラス用語： パターンニング ,  印刷技術 ,  逆オフセット印刷 ,  高解像度

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： オフセット印刷 ,  高解像度印刷 ,  エレクトロニクス ,  プロセス