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J-GLOBAL ID：202002284169758303   整理番号：20A1938986

Alリッチ[数式:原文を参照]表面における酸化物【JST・京大機械翻訳】

Oxide at the Al-rich [Formula : see text] surface

著者 (13件)： Dai Zongbei (CNRS, Sorbonne Universite, Institut des NanoSciences de Paris, UMR 7588, 4 Place Jussieu, F-75005 Paris, France) ,  Alyabyeva Natalia (CNRS, Sorbonne Universite, Institut des NanoSciences de Paris, UMR 7588, 4 Place Jussieu, F-75005 Paris, France) ,  Van den Bossche Maxime (CNRS, Sorbonne Universite, Institut des NanoSciences de Paris, UMR 7588, 4 Place Jussieu, F-75005 Paris, France) ,  Borghetti Patrizia (CNRS, Sorbonne Universite, Institut des NanoSciences de Paris, UMR 7588, 4 Place Jussieu, F-75005 Paris, France) ,  Chenot Stephane (CNRS, Sorbonne Universite, Institut des NanoSciences de Paris, UMR 7588, 4 Place Jussieu, F-75005 Paris, France) ,  David Pascal (CNRS, Sorbonne Universite, Institut des NanoSciences de Paris, UMR 7588, 4 Place Jussieu, F-75005 Paris, France) ,  Koltsov Alexey (ArcelorMittal Maizieres Research, voie Romaine, F-57280, Maizieres-les-Metz, France) ,  Renaud Gilles (Universite Grenoble Alpes, CEA, INAC, MEM, 38000 Grenoble, France) ,  Jupille Jacques (CNRS, Sorbonne Universite, Institut des NanoSciences de Paris, UMR 7588, 4 Place Jussieu, F-75005 Paris, France) ,  Cabailh Gregory (CNRS, Sorbonne Universite, Institut des NanoSciences de Paris, UMR 7588, 4 Place Jussieu, F-75005 Paris, France) ,  Noguera Claudine (CNRS, Sorbonne Universite, Institut des NanoSciences de Paris, UMR 7588, 4 Place Jussieu, F-75005 Paris, France) ,  Goniakowski Jacek (CNRS, Sorbonne Universite, Institut des NanoSciences de Paris, UMR 7588, 4 Place Jussieu, F-75005 Paris, France) ,  Lazzari Remi (CNRS, Sorbonne Universite, Institut des NanoSciences de Paris, UMR 7588, 4 Place Jussieu, F-75005 Paris, France)
資料名： Physical Review Materials  (Physical Review Materials)
巻： 4  号： 7  ページ： 074409  発行年： 2020年 
JST資料番号： W3690A  ISSN： 2475-9953  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： [数式:原文を参照](110)表面([数式:原文を参照]ランダム合金)における超薄酸化アルミニウム膜の形成を,ab initio原子論的シミュレーションで補足した種々の表面感受性技術(X線光電子放出,低エネルギー電子回折,表面X線回折,および走査トンネル顕微鏡)によって研究した。鉄は用いた条件で酸化されないので,研究はアルミニウム酸化と偏析過程の間の結合に焦点を当てた。裸の表面と比較して,その平均組成([数式:原文を参照])は[数式:原文を参照]nm深さで[数式:原文を参照]-CsCl構造に近いが,酸化はアルミニウムの表面下偏析にほとんど影響しない。すべての構造的および化学的フィンガープリントは,NiAl(110)上に見出されたものと類似の酸化膜を示した。それは,[数式:原文を参照]に近い組成を有する二層([数式:原文を参照]厚)であり,大きな[数式:原文を参照]はほぼ長方形の単位格子である。基板周期性と[数式:原文を参照]酸化物スーパーセルの間のほぼ完全な整合を見出した。それにもかかわらず,顕微鏡は,抗相ドメイン境界の存在を明らかにした。測定したAl[数式:原文を参照]とO[数式:原文を参照]コアレベルシフトは,計算したものと一致した。それらの起源と初期/最終状態効果の相対的寄与を考察した。異なる担体上のこの酸化物の遍在性は,その安定性の起源のために異なる。Copyright 2020 The American Physical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 光電子放出 ,  合金 ,  *酸化 ,  低速電子回折 ,  偏析 ,  *アルミニウム ,  鉄 ,  *酸化物 ,  酸化膜 ,  感受性 ,  指紋 ,  走査型トンネル顕微鏡
準シソーラス用語： 単位格子 ,  二層 ,  原子論的シミュレーション , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (4件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  その他の金属組織学  (WB01040Y) ,  その他の表面処理  (WC08070F) ,  電子分光スペクトル  (BM09060K)

タイトルに関連する用語 (4件)： Al ,  数式 ,  参照 ,  酸化物