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J-GLOBAL ID：202002284771546455   整理番号：20A1692018

溶浸成長および溶融成長処理バルク(RE)Ba_2Cu_3O_yの生産における最近の進歩【JST・京大機械翻訳】

Recent progress in production of infiltration-growth and melt-growth processed bulk (RE)Ba₂Cu₃O_y

著者 (9件)： Muralidhar M (Superconducting Material Laboratory, Graduate School of Science and Engineering, Shibaura Institute of Technology, 3-7-5 Toyosu, Koto-Ku, Tokyo 135-8546, Japan) ,  Sunsanee P (Superconducting Material Laboratory, Graduate School of Science and Engineering, Shibaura Institute of Technology, 3-7-5 Toyosu, Koto-Ku, Tokyo 135-8546, Japan) ,  Takemura K (Superconducting Material Laboratory, Graduate School of Science and Engineering, Shibaura Institute of Technology, 3-7-5 Toyosu, Koto-Ku, Tokyo 135-8546, Japan) ,  Sai Srikanth A (Superconducting Material Laboratory, Graduate School of Science and Engineering, Shibaura Institute of Technology, 3-7-5 Toyosu, Koto-Ku, Tokyo 135-8546, Japan) ,  Jirsa M (Institute of Physics CAS, Na Slovance 2, CZ-18221 Prague, Czech Republic) ,  Ramachandra Rao M S (Department of Physics, Nano Functional Materials Technology Centre and Materials Science Research Centre, Indian Institute of Technology Madras, Chennai 600036, India) ,  Oka T (Superconducting Material Laboratory, Graduate School of Science and Engineering, Shibaura Institute of Technology, 3-7-5 Toyosu, Koto-Ku, Tokyo 135-8546, Japan) ,  Sakai N (Superconducting Material Laboratory, Graduate School of Science and Engineering, Shibaura Institute of Technology, 3-7-5 Toyosu, Koto-Ku, Tokyo 135-8546, Japan) ,  Murakami M (Superconducting Material Laboratory, Graduate School of Science and Engineering, Shibaura Institute of Technology, 3-7-5 Toyosu, Koto-Ku, Tokyo 135-8546, Japan)
資料名： Superconductor Science and Technology  (Superconductor Science and Technology)
巻： 33  号： 7  ページ： 074002 (11pp)  発行年： 2020年 
JST資料番号： T0607A  ISSN： 0953-2048  CODEN： SUSTEF  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： (RE)Ba_2Cu_3O_y(RE-123;RE-希土類元素)材料の臨界電流密度(J_c)と均一性をさらに増加させるために新しい方法が必要である。本稿では,RE-123バルクの浸透成長(IG)と溶融成長(MG)処理のいくつかの問題を取り上げ,最近の進歩を示した。(i)高性能RE-123バルク(RE:YGd)の製造のためのIG処理混合YGdシステムタイプにおける211の組成の最適化,(ii)大きなバルクを生産するための混合YEr-123システムのIG処理における熱プロファイルの最適化,および(iii)MG処理Y-123の性能を改善するための高エネルギー超音波処理による鋭いエッジ精製RE-211相粒子の調製。すべての生成物を,液体窒素温度でSQUID,SEM,TEM,およびトラップされたフィールド測定によって研究した。著者らの実験結果は,IG処理混合YGd-123システムにおいて,Y:Gd=75:25が最適性能のための最良の比率であることを示した。YEr(Y:Er=90:10)系において,一連の等温実験は,990°Cが,最大成長および性能のための最適温度であることを明らかにした。一方,MG処理バルクでは,80分間300Wの超音波エネルギーに曝露したY-211相粒子は,主に粒子のせん断と高速衝突により,従来のプロセスで生成したものより小さい。その結果,従来の参照バルクと比較して,77Kで2倍捕捉場を達成した。IG-およびMG-処理RE-123バルクの改善された電磁特性と最終生成物における微細構造変化との関係を要約した。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 最適化 ,  浸透 ,  微細構造 ,  高速衝突 ,  捕獲 ,  *溶浸 ,  SQUID ,  臨界電流密度 ,  *融液成長
準シソーラス用語： ソニケーション ,  高エネルギー ,  最適温度 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 酸化物系超伝導体の物性  (BM04023I)

タイトルに関連する用語 (5件)： 溶浸 ,  成長 ,  溶融成長 ,  バルク ,  Re